د سولر فوټوولټیک پتلی فلم ټیکنالوژۍ پیژندنه

په 1863 کې په اروپا کې د فوتوولټیک اغیز له کشف وروسته، متحده ایالاتو په 1883 کې د (Se) سره لومړی فوتوولټیک حجره جوړه کړه. په لومړیو ورځو کې، فوتوولټیک حجرې په عمده توګه په فضا، نظامي او نورو برخو کې کارول کیده.په تیرو 20 کلونو کې، د فوتوولټیک حجرو په لګښت کې د پام وړ کمښت په ټوله نړۍ کې د سولر فوتوولټیک پراخه غوښتنلیک ته وده ورکړه.د 2019 په پای کې، په ټوله نړۍ کې د لمریز PV ټول نصب شوي ظرفیت 616GW ته رسیدلي، او تمه کیږي چې دا به تر 2050 پورې د نړۍ د ټول بریښنا تولید 50٪ ته ورسیږي. ځکه چې د فوتوولټیک سیمیکمډکټر موادو لخوا د رڼا جذب په عمده توګه د لمر د ضخامت په حد کې واقع کیږي. د څو مایکرون څخه تر سلګونو مایکرون پورې ، او د بیټرۍ فعالیت باندې د سیمیکمډکټر موادو د سطح نفوذ خورا مهم دی ، د ویکیوم پتلی فلم ټیکنالوژي په پراخه کچه د لمریز حجرو تولید کې کارول کیږي.

صنعتي شوي فوټوولټیک حجرې په عمده توګه په دوه کټګوریو ویشل شوي دي: یو یې کرسټالین سیلیکون سولر حجرې دي، او بل یې پتلی فلم شمسي حجرې دي.وروستي کرسټالین سیلیکون سیل ټیکنالوژۍ کې د پاسیویشن ایمیټر او بیک سایډ سیل (PERC) ټیکنالوژي ، د هیټروجنکشن سیل (HJT) ټیکنالوژي ، د پاسیویشن ایمیټر بیک سرفیس بشپړ خپریدو (PERT) ټیکنالوژي ، او د اکسایډ سوراخ کولو تماس (Topcn) سیل ټیکنالوژي شامل دي.د کریسټالین سیلیکون حجرو کې د پتلي فلمونو دندې په عمده ډول د غیر فعال کیدو ، انعکاس ضد ، p/n ډوپینګ ، او چلولو شامل دي.د اصلي سټریم پتلي فلم بیټرۍ ټیکنالوژۍ کې کیډیم ټیلورایډ ، د مسو انډیم ګالیم سیلینایډ ، کلسایټ او نور ټیکنالوژي شامل دي.فلم په عمده توګه د رڼا جذبونکي طبقې، conductive پرت، او داسې نور په توګه کارول کیږي. مختلف ویکیوم پتلی فلم ټیکنالوژي په فوتوولټیک حجرو کې د پتلی فلمونو په چمتو کولو کې کارول کیږي.

ژینواد سولر فوټوولټیک کوټینګ تولید لاینپیژندنه:

د تجهیزاتو ځانګړتیاوې:

1. ماډلر جوړښت غوره کړئ، کوم چې کولی شي د کار او موثریت اړتیاوو سره سم چیمبر زیات کړي، کوم چې مناسب او انعطاف وړ وي؛

2. د تولید پروسه په بشپړه توګه وڅارل شي، او د پروسې پیرامیټرونه تعقیب کیدی شي، کوم چې د تولید تعقیب لپاره اسانه وي؛

4. د موادو ریک کولی شي په اوتومات ډول بیرته راستانه شي، او د سمبالونکي کارول کولی شي پخواني او وروستي پروسې سره وصل کړي، د کار لګښتونه کم کړي، د اتوماتیک لوړه درجه، لوړ موثریت او د انرژۍ سپمولو.

دا د Ti، Cu، Al، Cr، Ni، Ag، Sn او نورو عنصري فلزاتو لپاره مناسب دی، او په پراخه توګه د سیمیکمډکټر بریښنایی اجزاو کې کارول شوي، لکه: سیرامیک سبسټریټونه، سیرامیک کیپسیټرونه، د LED سیرامیک بریکٹ، او نور.