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Linha de produção horizontal de revestimento semicondutor de dupla face

  • Revestimento por pulverização horizontal de dupla face
  • Aplicável a produtos na indústria de semicondutores
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    produtos

    DESCRIÇÃO DO PRODUTO

    A linha de revestimento adota estrutura modular, que pode aumentar a câmara de acordo com os requisitos de processo e eficiência, e pode ser revestida em ambos os lados, o que é flexível e conveniente.Equipado com sistema de limpeza de íons, sistema de aquecimento rápido e sistema de pulverização catódica de magnetron DC, pode depositar com eficiência revestimento de metal simples.O equipamento possui batida rápida, fixação conveniente e alta eficiência.

    A linha de revestimento é equipada com limpeza iônica e sistema de cozimento em alta temperatura, de modo que a adesão do filme depositado é melhor.O sputtering de pequeno ângulo com alvo rotativo é favorável para a deposição de filme na superfície interna de pequena abertura.

    1. O equipamento tem estrutura compacta e pequena área útil.
    2. O sistema de vácuo é equipado com bomba molecular para extração de ar, com baixo consumo de energia.
    3. O retorno automático do rack de material economiza mão de obra.
    4. Os parâmetros do processo podem ser rastreados e o processo de produção pode ser monitorado em todo o processo para facilitar o rastreamento de defeitos de produção.
    5. A linha de revestimento tem um alto grau de automação.Pode ser usado com o manipulador para conectar os processos dianteiro e traseiro e reduzir o custo de mão de obra.

    Pode substituir a impressão em pasta de prata no processo de fabricação de capacitores, com maior eficiência e menor custo.
    É aplicável a Ti, Cu, Al, Cr, Ni, Ag, Sn e outros metais simples.Tem sido amplamente utilizado em componentes eletrônicos semicondutores, como substratos cerâmicos, capacitores cerâmicos, suportes cerâmicos led, etc.

    A máquina pode ser projetada de acordo com a exigência dos clientes Obter uma cotação

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