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Breve introdução à tecnologia de deposição química de vapor (CVD)

Fonte do artigo: Vácuo Zhenhua
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Publicado: 23-03-04

A tecnologia Chemical Vapor Deposition (CVD) é uma tecnologia de formação de filme que usa aquecimento, aprimoramento de plasma, fotoassistida e outros meios para fazer com que substâncias gasosas produzam filmes sólidos na superfície do substrato por meio de reação química sob pressão normal ou baixa.

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Geralmente, a reação na qual o reagente é um gás e um dos produtos é um sólido é chamada de reação CVD.Existem muitos tipos de revestimentos preparados pela reação CVD, especialmente no processo de semicondutores.Por exemplo, no campo de semicondutores, o refino de matérias-primas, a preparação de filmes monocristalinos semicondutores de alta qualidade e o crescimento de filmes policristalinos e amorfos, de dispositivos eletrônicos a circuitos integrados, estão todos relacionados à tecnologia CVD.Além disso, o tratamento de superfície dos materiais é favorecido pelas pessoas.Por exemplo, vários materiais, como máquinas, reatores, equipamentos aeroespaciais, médicos e químicos, podem ser usados ​​para preparar revestimentos funcionais com resistência à corrosão, resistência ao calor, resistência ao desgaste e reforço de superfície pelo método de formação de filme CVD de acordo com seus diferentes requisitos.

—— Este artigo foi publicado pela Guangdong Zhenhua, fabricante deequipamento de revestimento a vácuo


Horário de postagem: Mar-04-2023