1. Orevestimento de evaporação a vácuoO processo inclui a evaporação de materiais de filme, o transporte de átomos de vapor em alto vácuo e o processo de nucleação e crescimento de átomos de vapor na superfície da peça de trabalho.
2. O grau de vácuo de deposição do revestimento de evaporação a vácuo é alto, geralmente 10-510-3Pa. O caminho livre das moléculas de gás é de ordem de grandeza de 1~10m, que é muito maior que a distância da fonte de evaporação até a peça de trabalho, esta distância é chamada de distância de evaporação, geralmente 300~800mm.As partículas de revestimento dificilmente colidem com moléculas de gás e átomos de vapor e atingem a peça de trabalho.
3. A camada de revestimento por evaporação a vácuo não é chapeamento enrolado, e os átomos de vapor vão direto para a peça de trabalho sob alto vácuo.Apenas o lado voltado para a fonte de evaporação na peça de trabalho pode obter a camada de filme, e o lado e a parte de trás da peça de trabalho dificilmente conseguem a camada de filme, e a camada de filme tem revestimento ruim.
4. A energia das partículas da camada de revestimento de evaporação a vácuo é baixa e a energia que atinge a peça de trabalho é a energia térmica transportada pela evaporação.Como a peça de trabalho não é polarizada durante o revestimento por evaporação a vácuo, os átomos de metal dependem apenas do calor da vaporização durante a evaporação, a temperatura de evaporação é de 1.000 a 2.000 °C e a energia transportada é equivalente a 0,1 a 0,2 eV, portanto, a energia de as partículas do filme são baixas, a força de ligação entre a camada do filme e a matriz é pequena e é difícil formar um revestimento composto.
5. A camada de revestimento por evaporação a vácuo tem uma estrutura fina.O processo de revestimento por evaporação a vácuo é formado sob alto vácuo, e as partículas de filme no vapor são basicamente em escala atômica, formando um núcleo fino na superfície da peça de trabalho.
Horário da postagem: 14 de junho de 2023