Orevestimento a vácuoO processo da máquina é dividido em: revestimento por evaporação a vácuo, revestimento por pulverização catódica a vácuo e revestimento por íons a vácuo.
1、Revestimento de evaporação a vácuo
Sob a condição de vácuo, evapore o material, como metal, liga metálica, etc., em seguida, deposite-os na superfície do substrato, o método de revestimento por evaporação geralmente usa aquecimento por resistência e, em seguida, bombardeio por feixe de elétrons do material de revestimento, faça-os evaporado na fase gasosa, então depositado na superfície do substrato, historicamente, a deposição de vapor a vácuo é a tecnologia anterior usada no método PVD.
2、Revestimento por pulverização catódica
O gás é submetido a uma descarga incandescente sob condições de vácuo (Ar) preenchido Neste momento, os átomos de argônio (Ar) se transformam em íons de nitrogênio (Ar). Os íons são acelerados pela força do campo elétrico e bombardeiam o alvo do cátodo que é feito de material de revestimento, o alvo será pulverizado e depositado na superfície do substrato Os íons incidentes no revestimento por pulverização, geralmente obtidos por descarga de brilho, estão na faixa de 10-2pa a 10Pa，Assim, as partículas pulverizadas são fáceis de colidir com as moléculas de gás na câmara de vácuo ao voar em direção ao substrato, tornando a direção do movimento aleatória e o filme depositado fácil de ser uniforme.
3、Revestimento de íons
Sob condições de vácuo, sob condições de vácuo, usou uma certa técnica de ionização de plasma para ionizar parcialmente os átomos do material de revestimento em íons. Ao mesmo tempo, muitos átomos neutros de alta energia são produzidos, que são negativamente polarizados no substrato. são depositados na superfície do substrato sob um profundo viés negativo para formar um filme fino.
Horário de postagem: 23 de março de 2023