revestimento de íonsmáquina originou-se da teoria proposta por DM Mattox na década de 1960, e experimentos correspondentes começaram nessa época;Até 1971, Chambers e outros publicaram a tecnologia de revestimento iônico por feixe de elétrons;A tecnologia de revestimento por evaporação reativa (ARE) foi apontada no relatório Bunshah em 1972, quando tipos de filmes superduros como TiC e TiN foram produzidos;Também em 1972, Smith e Molley adotaram a tecnologia de cátodo oco no processo de revestimento.Na década de 1980, o revestimento iônico na China finalmente atingiu o nível de aplicação industrial, e os processos de revestimento, como o revestimento iônico multiarco a vácuo e o revestimento iônico por descarga de arco, apareceram sucessivamente.
Todo o processo de trabalho do revestimento iônico a vácuo é o seguinte: primeiro,bombeara câmara de vácuo e, em seguida,esperea pressão de vácuo para 4X10 ⁻ ³ Paou melhor, é necessário conectar a fonte de alimentação de alta tensão e construir uma área de plasma de baixa temperatura de gás de descarga de baixa tensão entre o substrato e o evaporador.Conecte o eletrodo de substrato com alta tensão negativa de 5000 V DC para formar uma descarga incandescente do cátodo.Os íons de gás inerte são gerados perto da área de brilho negativo.Eles entram na área escura do cátodo e são acelerados pelo campo elétrico e bombardeiam a superfície do substrato.Este é um processo de limpeza e, em seguida, entra no processo de revestimento.Através do efeito do aquecimento do bombardeio, alguns materiais de revestimento são vaporizados.A área de plasma entra nos prótons, colide com elétrons e íons de gás inerte, e uma pequena parte deles é ionizada. Esses íons ionizados com alta energia bombardearão a superfície do filme e melhorarão a qualidade do filme até certo ponto.
O princípio do revestimento iônico a vácuo é: na câmara de vácuo, usando o fenômeno de descarga de gás ou a parte ionizada do material vaporizado, sob o bombardeio dos íons do material vaporizado ou íons de gás, deposite simultaneamente essas substâncias vaporizadas ou seus reagentes no substrato para obter um filme fino.O revestimento de íonsmáquinacombina evaporação a vácuo, tecnologia de plasma e descarga de brilho de gás, o que não apenas melhora a qualidade do filme, mas também expande a faixa de aplicação do filme.As vantagens desse processo são forte difração, boa adesão do filme e vários materiais de revestimento.O princípio do revestimento iônico foi proposto pela primeira vez por DM Mattox.Existem muitos tipos de revestimento iônico.O tipo mais comum é o aquecimento por evaporação, incluindo aquecimento por resistência, aquecimento por feixe de elétrons, aquecimento por feixe de elétrons de plasma, aquecimento por indução de alta frequência e outros métodos de aquecimento.
Horário de postagem: 14 de fevereiro de 2023