ZHCVD1200

O equipamento adota principalmente a deposição de vapor químico para preparar o filme de óxido, que possui as características de taxa de deposição rápida e alta qualidade do filme.Quanto à estrutura do equipamento, a estrutura de porta dupla é usada para melhorar a eficiência de fixação, e o mais recente sistema de fornecimento de gás líquido é adotado para garantir um fluxo estável e controlável e garantir efetivamente a estabilidade do processo.O filme preparado pelo equipamento possui boa barreira ao vapor de água e maior período de estabilidade no teste de ebulição.
O equipamento pode ser aplicado em aço inoxidável, hardware galvanizado/peças plásticas, vidro, cerâmica e outros materiais, como produtos eletrônicos, contas de luz LED, suprimentos médicos e outros produtos que precisam de resistência à oxidação.O filme de barreira SiOx é preparado principalmente para bloquear efetivamente o vapor de água, prevenir corrosão e oxidação e melhorar a vida útil do produto.