Tehnologia de depunere chimică a vaporilor cu plasmă cu arc fierbinte folosește pistolul cu arc fierbinte pentru a emite plasmă cu arc, prescurtat ca tehnologia PECVD cu arc fierbinte.Această tehnologie este similară cu tehnologia de acoperire cu ioni a pistolului cu arc fierbinte, dar diferența este că pelicula solidă obținută prin acoperirea ionică a pistolului cu arc fierbinte folosește fluxul de electroni luminos emis de pistolul cu arc fierbinte pentru a încălzi și evapora metalul în creuzetul, în timp ce lumina cu arc de sârmă fierbinte PECVD este alimentată cu gaze de reacție, cum ar fi CH4 și H2, care sunt utilizate pentru depunerea filmelor de diamant.Bazându-se pe curentul de descărcare a arcului de înaltă densitate emis de pistolul cu arc cu fir fierbinte, ionii de gaz reactiv sunt excitați pentru a obține diferite particule active, inclusiv ioni de gaz, ioni atomici, grupuri active și așa mai departe.
În dispozitivul PECVD cu arc cu fir fierbinte, două bobine electromagnetice sunt încă instalate în afara camerei de acoperire, determinând rotirea fluxului de electroni de înaltă densitate în timpul mișcării către anod, crescând probabilitatea de coliziune și ionizare între fluxul de electroni și gazul de reacție. .Bobina electromagnetică poate, de asemenea, converge într-o coloană cu arc pentru a crește densitatea plasmei întregii camere de depunere.În plasmă cu arc, densitatea acestor particule active este mare, ceea ce face mai ușoară depunerea filmelor diamantate și a altor straturi de film pe piesa de prelucrat.
——Acest articol a fost publicat de Guangdong Zhenhua Technology, aproducator de masini de acoperire optică.
Ora postării: mai-05-2023