1. Substratul de curățare a bombardamentelor
1.1) Mașina de acoperire prin pulverizare utilizează descărcarea strălucitoare pentru a curăța substratul.Adică, încărcați gazul argon în cameră, tensiunea de descărcare este de aproximativ 1000 V, după pornirea sursei de alimentare, se generează o descărcare strălucitoare, iar substratul este curățat prin bombardament cu ioni de argon.
1.2) În mașinile de acoperire prin pulverizare prin pulverizare care produc ornamente de ultimă generație, ionii de titan emiși de sursele de arc mici sunt utilizați în principal pentru curățare.Mașina de acoperire prin pulverizare este echipată cu o sursă de arc mică, iar fluxul de ioni de titan din plasma cu arc generat de descărcarea sursei de arc mic este utilizat pentru a bombarda și curăța substratul.
2. Acoperire cu nitrură de titan
La depunerea filmelor subțiri de nitrură de titan, materialul țintă pentru pulverizare este ținta de titan.Materialul țintă este conectat la electrodul negativ al sursei de alimentare cu pulverizare, iar tensiunea țintă este de 400 ~ 500V;Fluxul de argon este fix, iar vidul de control este (3~8) x10-1PA.Substratul este conectat la electrodul negativ al sursei de polarizare, cu o tensiune de 100~200V.
După pornirea sursei de alimentare a țintei de titan pulverizat, este generată o descărcare strălucitoare, iar ionii de argon de înaltă energie bombardează ținta pulverizată, pulverizând atomi de titan din țintă.
Azotul gazos de reacție este introdus, iar atomii de titan și azotul sunt ionizați în ioni de titan și ioni de azot în camera de acoperire.Sub atracția câmpului electric de polarizare negativă aplicat substratului, ionii de titan și ionii de azot accelerează la suprafața substratului pentru reacție chimică și depunere pentru a forma un strat de film de nitrură de titan.
3. Scoateți substratul
După ce ați atins grosimea predeterminată a filmului, opriți sursa de alimentare pentru pulverizare, sursa de alimentare cu polarizarea substratului și sursa de aer.După ce temperatura substratului este mai mică de 120 ℃, umpleți camera de acoperire cu aer și scoateți substratul.
Acest articol este publicat deProducător de mașini de acoperire prin pulverizare cu magnetron– Guangdong Zhenhua.
Ora postării: Apr-07-2023