Acoperirea cu ioni în vid (denumită și placare ionică) a fost propusă în Statele Unite în 1963 de compania DM Mattox, iar în anii 1970 s-a dezvoltat rapid o nouă tehnologie de tratare a suprafețelor. Aceasta se referă la utilizarea unei surse de evaporare sau a unei ținte de pulverizare catodică într-o atmosferă de vid, astfel încât materialul filmului, prin evaporare sau pulverizare, să ionizeze o parte din particulele din spațiul de descărcare a gazului în ioni metalici.
Aceste particule se depun pe substrat sub acțiunea unui câmp electric pentru a genera un proces de peliculă subțire.
Placarea cu ioni în vid este de mai multe tipuri, de obicei în funcție de materialul membranei pentru a produce sursa de ioni, fiind împărțită în două tipuri: placare cu ioni de tip sursă de evaporare și placare cu ioni de tip țintă catodică. Prima constă în evaporarea prin încălzirea materialului pelicular pentru a produce vapori metalici, astfel încât acesta este parțial ionizat în vapori metalici și atomi neutri de înaltă energie în spațiul plasmei de descărcare gazoasă, prin intermediul câmpului electric ajungând la substrat pentru a genera pelicule subțiri; cea de-a doua constă în utilizarea ionilor de înaltă energie (de exemplu, Ar+) pe suprafața materialului pelicular pentru a face pulverizarea particulelor prin spațiul de descărcare gazoasă ionizate în ioni sau atomi neutri de înaltă energie, pentru a ajunge la suprafața substratului și a genera pelicula.
–Acest articol este publicat deproducător de mașini de acoperire în vidGuangdong Zhenhua
Data publicării: 07 martie 2024