Theacoperire cu vidProcesul mașinii este împărțit în: acoperire prin evaporare în vid, acoperire prin pulverizare în vid și acoperire cu ion de vid.
1, Acoperire prin evaporare în vid
În condiții de vid, evaporați materialul, cum ar fi metalul, aliajul metalic etc., apoi depuneți-le pe suprafața substratului, metoda de acoperire prin evaporare este adesea folosirea încălzirii prin rezistență, apoi bombardarea cu fascicul de electroni a materialului de acoperire, faceți-le evaporat în fază gazoasă, apoi se depune pe suprafața substratului, din punct de vedere istoric, depunerea de vapori în vid este tehnologia anterioară utilizată în metoda PVD.
2, Acoperire prin pulverizare
Gazul este supus unei descărcări strălucitoare în condiții de vid umplute cu (Ar) În acest moment, atomii de argon (Ar) ionul în ioni de azot (Ar), ionii sunt accelerați de forța câmpului electric și bombardează ținta catodului care este făcută din materialul de acoperire, ținta va fi pulverizată și depusă pe suprafața substratului Ionii incidenti în acoperirea prin pulverizare, în general obținuți prin descărcare strălucitoare, sunt în intervalul de la 10-2pa la 10Pa, astfel încât particulele pulverizate sunt ușor de ciocnit cu moleculele de gaz în camera de vid atunci când zboară către substrat, făcând direcția de mișcare aleatorie și filmul depus ușor să fie uniform.
3, Acoperire cu ioni
În condiții de vid, în condiții de vid, a folosit o anumită tehnică de ionizare cu plasmă pentru a ioniza parțial atomii materialului de acoperire în ioni. În același timp, sunt produși mulți atomi neutri de energie înaltă, care sunt influențați negativ pe substrat. În acest fel, ionii sunt depuse pe suprafața substratului sub o tendință negativă profundă pentru a forma o peliculă subțire.
Ora postării: 23-mar-2023