CFM1916

(1) Стойка для заготовок имеет цилиндрическую конструкцию с большой площадью покрытия.Производительность по загрузке продукта в два раза выше, чем у оборудования для электронно-лучевого испарения той же спецификации.Стойка для заготовок разработана с конструкцией вращения и вращения, которая может адаптироваться к заготовкам различной формы и более широко используется.
(2) Используя среднечастотную магнетронную систему распыления цилиндрической мишени и вспомогательную систему источника ионов, пленка покрытия является компактной, с высоким и стабильным показателем преломления, сильной адгезией и не легко адсорбирует молекулы водяного пара.В различных условиях пленка сохраняет более стабильные оптические характеристики, чем пленка, нанесенная с помощью традиционного оборудования для электронно-лучевого испарения.
(3) Оснащен системой контроля кристаллов для точного контроля толщины пленки, процесс имеет высокую стабильность и хорошую повторяемость.Замкнутая система SPEEDFLO и система автоматического управления могут эффективно улучшить скорость осаждения SiO2.
(4) Конструкция термостатического приспособления может эффективно контролировать температуру продукта и может адаптироваться к ультратонким продуктам из ПЭТ и ПК.