Как мы все знаем, определение полупроводника заключается в том, что он имеет проводимость между сухими проводниками и изоляторами, удельное сопротивление между металлом и изолятором, которое обычно при комнатной температуре находится в пределах 1 мОм-см ~ 1 ГОм-см. В последние годы, вакуумное полупроводниковое покрытие в крупных полупроводниковых компаниях, ясно, что его статус становится все более высоким, особенно в некоторых крупномасштабных методах исследования технологий разработки интегральных систем, для магнитоэлектрических преобразователей, светоизлучающих устройств и других опытно-конструкторских работ.Вакуумное покрытие полупроводников играет важную роль.
Полупроводники характеризуются своими собственными характеристиками, температурой и концентрацией примесей.Материалы вакуумных полупроводниковых покрытий отличаются друг от друга главным образом входящими в их состав соединениями.Примерно все основаны на боре, углероде, кремнии, германии, мышьяке, сурьме, теллуре, йоде и т. д., а некоторые относительно немного на GaP, GaAs, lnSb и т. д. Есть также некоторые оксидные полупроводники, такие как FeO, Fe₂O₃, MnO, Cr₂O₃, Cu₂O и др.
Вакуумное напыление, напыление, ионное покрытие и другое оборудование могут выполнять вакуумное покрытие полупроводников.Все эти устройства для нанесения покрытий различны по принципу работы, но все они делают материал покрытия полупроводниковым материалом нанесенным на подложку, и в качестве материала подложки нет требований, может ли он быть полупроводником или нет.Кроме того, покрытия с различными электрическими и оптическими свойствами могут быть получены как путем диффузии примесей, так и путем ионной имплантации на поверхность полупроводниковой подложки в определенном диапазоне.Полученный тонкий слой можно также обрабатывать как полупроводниковое покрытие в целом.
Вакуумное покрытие полупроводников незаменимо в электронике, будь то активные или пассивные устройства.Благодаря постоянному совершенствованию технологии вакуумного покрытия полупроводников стал возможным точный контроль характеристик пленки.
В последние годы аморфное покрытие и поликристаллическое покрытие добились быстрого прогресса в производстве фотопроводящих устройств, трубок с полевым эффектом с покрытием и высокоэффективных солнечных элементов.Кроме того, из-за разработки вакуумного покрытия полупроводников и тонкопленочных сенсоров, что также существенно снижает сложность выбора материала и постепенно упрощает производственный процесс.Оборудование для вакуумного покрытия полупроводников стало необходимым для полупроводниковых приложений.Оборудование широко используется для нанесения полупроводниковых покрытий на камеры, солнечные батареи, транзисторы с покрытием, автоэмиссионные, катодные, электронные, тонкопленочные чувствительные элементы и т. д.
Линия магнетронного напыления имеет полностью автоматическую систему управления, удобный и интуитивно понятный человеко-машинный интерфейс с сенсорным экраном.Линия разработана с полным функциональным меню для обеспечения полного мониторинга рабочего состояния всех компонентов производственной линии, настройки параметров процесса, защиты работы и функций аварийной сигнализации.Вся электрическая система управления безопасна, надежна и стабильна.Оснащен верхней и нижней двусторонней мишенью для магнетронного распыления или системой одностороннего покрытия.
Оборудование в основном применяется для керамических печатных плат, высоковольтных конденсаторов микросхем и другого покрытия подложки, основными областями применения являются электронные печатные платы.
Время публикации: 07 ноября 2022 г.