Процесс прямой плазменной полимеризации
Процесс плазменной полимеризации относительно прост как для оборудования для полимеризации с внутренним электродом, так и для оборудования для полимеризации с внешним электродом, но выбор параметров более важен при плазменной полимеризации, поскольку параметры оказывают большее влияние на структуру и характеристики полимерных пленок во время плазменной полимеризации.
Операционные этапы прямой плазменной полимеризации следующие:
(1) Пылесосить
Фоновый вакуум полимеризации в вакуумных условиях должен быть откачан до 1,3×10-1Па.Для реакций полимеризации, требующих специальных требований по контролю содержания кислорода или азота, требования к фоновому вакууму еще выше.
(2) Заправка реакционного мономера или газовой смеси из газа-носителя и мономера
Степень вакуума составляет 13-130 Па.Для плазменной полимеризации, требующей работы, должны быть выбраны соответствующий режим управления потоком и скорость потока, обычно 10-100 мл/мин.В плазме молекулы мономера ионизируются и диссоциируют при бомбардировке энергичными частицами, в результате чего образуются активные частицы, такие как ионы и активные гены.Активированные частицы, активированные плазмой, могут подвергаться плазменной полимеризации на границе газовой и твердой фаз.Мономер является источником прекурсора для плазменной полимеризации, а входящий реакционный газ и мономер должны иметь определенную чистоту.
(3) Выбор источника питания возбуждения
Плазму можно генерировать с использованием источников постоянного, высокочастотного, радиочастотного или микроволнового питания, чтобы обеспечить плазменную среду для полимеризации.Выбор источника питания определяется исходя из требований к структуре и характеристикам полимера.
(4) Выбор режима разряда
В зависимости от требований к полимеру плазменная полимеризация может выбрать два режима разряда: непрерывный разряд или импульсный разряд.
(5) Выбор параметров разряда
При проведении плазменной полимеризации необходимо учитывать параметры разряда, исходя из параметров плазмы, свойств полимера и требований к структуре.Величина приложенной мощности во время полимеризации определяется объемом вакуумной камеры, размером электрода, скоростью потока и структурой мономера, скоростью полимеризации, а также структурой и характеристиками полимера.Например, если объем реакционной камеры составляет 1 л и применяется плазменная высокочастотная полимеризация, мощность разряда будет находиться в диапазоне 10–30 Вт.В таких условиях генерируемая плазма может собираться в тонкую пленку на поверхности заготовки.Скорость роста пленки плазменной полимеризации зависит от источника питания, типа и скорости потока мономера, а также от условий процесса.Как правило, скорость роста составляет 100 нм/мин~1 мкм/мин.
(6) Измерение параметров при плазменной полимеризации
Параметры плазмы и параметры процесса, подлежащие измерению при плазменной полимеризации, включают: напряжение разряда, ток разряда, частоту разряда, температуру электронов, плотность, тип и концентрацию реакционной группы и т. д.
——Эта статья была выпущена компанией Guangdong Zhenhua Technology,производитель машин для нанесения оптических покрытий.
Время публикации: 05 мая 2023 г.