Покрытие PVD — одна из основных технологий получения тонкопленочных материалов.
Слой пленки придает поверхности изделия металлическую текстуру и насыщенный цвет, повышает износостойкость и коррозионную стойкость, продлевает срок службы.
Напыление и вакуумное испарение являются двумя наиболее распространенными методами покрытия PVD.
1. Определение
Физическое осаждение из паровой фазы - это разновидность метода роста с физической паровой реакцией.Процесс осаждения осуществляется в условиях вакуума или газового разряда низкого давления, то есть в низкотемпературной плазме.
Источником материала покрытия является твердый материал.После «испарения или напыления» на поверхности детали образуется новое твердое покрытие, полностью отличающееся от характеристик основного материала.
2、 Основной процесс покрытия PVD
1. Выброс частиц из сырья (путем испарения, сублимации, распыления и разложения);
2. Транспортировка частиц к подложке (частицы сталкиваются друг с другом, что приводит к ионизации, рекомбинации, реакции, обмену энергией и изменению направления движения);
3. Частицы конденсируются, зарождаются, растут и образуют пленку на подложке.
Время публикации: 31 января 2023 г.