Sputtering ڪوٽنگ مشين جي عمل جي وهڪري

1. بمباري جي صفائي واري سبسٽريٽ

1.1) اسپٽرنگ ڪوٽنگ مشين استعمال ڪريو چمڪ ڊسچارج کي صاف ڪرڻ لاءِ.اهو چوڻ آهي ته، آرگن گيس کي چيمبر ۾ چارج ڪريو، ڊسچارج وولٽيج تقريبا 1000V آهي، پاور سپلائي کي ڦيرائڻ کان پوء، هڪ چمڪندڙ خارج ٿيڻ پيدا ٿئي ٿي، ۽ سبسٽريٽ کي آرگن آئن بمباري سان صاف ڪيو ويندو آهي.

1.2) اسپٽرنگ ڪوٽنگ مشينن ۾ جيڪي صنعتي طور تي اعليٰ درجي جا زيور پيدا ڪن ٿا، ننڍيون آرڪ ذريعن مان نڪتل ٽائيٽينيم آئنز اڪثر ڪري صفائي لاءِ استعمال ٿيندا آهن.اسپٽرنگ ڪوٽنگ مشين هڪ ننڍڙي آرڪ ماخذ سان ليس آهي، ۽ آرڪ پلازما ۾ ٽائيٽنيم آئن وهڪرو ننڍڙي آرڪ ماخذ خارج ٿيڻ جي ذريعي ٺاهيل آهي، بمباري ڪرڻ ۽ سبسٽريٽ کي صاف ڪرڻ لاء استعمال ڪيو ويندو آهي.

2. Titanium nitride ڪوٽنگ

جڏهن ٽائيٽينيم نائٽرائڊ پتلي فلمن کي جمع ڪيو وڃي ٿو، اسپٽرنگ لاء ٽارگيٽ مواد ٽائيٽيم ٽارگيٽ آهي.ھدف مواد sputtering بجلي جي فراهمي جي منفي electrode سان ڳنڍيل آهي، ۽ ٽارگيٽ voltage 400 ~ 500V آهي؛Argon flux مقرر ڪيو ويو آهي، ۽ ڪنٽرول ويڪيوم آهي (3 ~ 8) x10^-1پي اي.Substrate 100 ~ 200V جي وولٹیج سان، تعصب پاور سپلائي جي منفي اليڪٽرروڊ سان ڳنڍيل آهي.

اسپٽرنگ ٽائيٽينيم ٽارگيٽ جي پاور سپلائي کي چالو ڪرڻ کان پوء، هڪ چمڪندڙ خارج ٿيڻ پيدا ٿئي ٿي، ۽ تيز توانائي آرگن آئنز اسپٽرنگ ٽارگيٽ تي بمباري ڪن ٿا، ٽارگيٽ کان ٽائيٽينيم ايٽم کي ڦٽو ڪن ٿا.

رد عمل گيس نائٽروجن متعارف ڪرايو ويو آهي، ۽ ٽائيٽينيم ايٽم ۽ نائيٽروجن آئنائيز ٿيل آهن ٽائيٽيم آئنز ۽ ڪوٽنگ چيمبر ۾ نائٽروجن آئنز.منفي تعصب برقي فيلڊ جي ڪشش تحت سبسٽٽ تي لاڳو ڪيو ويو آهي، ٽائيٽينيم آئنز ۽ نائٽروجن آئنز ڪيميائي رد عمل ۽ جمع ڪرڻ لاء سبسٽٽ جي مٿاڇري تي تيز ٿين ٿا ۽ ٽائيٽينيم نائٽرائڊ فلم پرت ٺاهي ٿي.

3. ڪڍيو substrate

اڳواٽ مقرر ٿيل فلم جي ٿلهي تائين پهچڻ کان پوء، اسپٽرنگ پاور سپلائي کي بند ڪريو، سبسٽريٽ تعصب پاور سپلائي، ۽ هوائي ذريعو.ذيلي ذخيري جو گرمي پد 120 ℃ کان گھٽ ٿيڻ کان پوء، ڪوٽنگ چيمبر کي هوا سان ڀريو ۽ سبسٽريٽ ڪڍيو.

هي آرٽيڪل پاران شايع ٿيل آهيmagnetron sputtering ڪوٽنگ مشين ڪاريگر- گوانگڊونگ زينوا.