خال evaporation ڪوٽنگ جو اصول
1، خال evaporation ڪوٽنگ جو سامان ۽ جسماني عمل
ويڪيوم evaporation ڪوٽنگ جو سامان بنيادي طور تي ويڪيوم چيمبر ۽ نڪرڻ واري نظام تي مشتمل آهي.ويڪيوم چيمبر جي اندر، اتي موجود آهن evaporation ذريعو (يعني evaporation heater)، substrate ۽ substrate فريم، substrate heater، exhaust system وغيره.
ڪوٽنگ مواد ويڪيوم چيمبر جي evaporation جي ماخذ ۾ رکيل آهي، ۽ اعلي ويڪيوم حالتن ۾، ان کي بخار ٿيڻ جي ذريعن طرفان گرم ڪيو ويندو آهي.جڏهن وانپ ماليڪيولن جي سراسري آزاد حد ويڪيوم چيمبر جي لڪير جي سائيز کان وڏي هوندي آهي، جڏهن ته فلم وانپ جا ايٽم ۽ ماليڪيول بخاري جي ماخذ جي مٿاڇري کان ڀڄي ويا آهن، گهٽ ۾ گهٽ ٻين ماليڪيولن يا ايٽمس جي ٽڪراءَ ۾ رڪاوٽ بڻجن ٿا، ۽ سڌو سنئون ذيلي سطح جي سطح تائين پهچندي آهي جيڪا کوٽ ڪئي ويندي.ذيلي ذخيري جي گھٽ درجه حرارت جي ڪري، فلم جي بخار جا ذرات ان تي ڳري ويندا آهن ۽ هڪ فلم ٺاهيندا آهن.
evaporation molecules ۽ substrate جي adhesion کي بهتر ڪرڻ لاء، substrate کي چالو ڪري سگهجي ٿو مناسب گرمي يا آئن صفائي جي ذريعي.ويڪيوم evaporation ڪوٽنگ هيٺين جسماني عملن مان گذري ٿي مادي بخارات، نقل و حمل کان وٺي فلم ۾ جمع ٿيڻ تائين.
(1) توانائي جي ٻين شڪلين کي حرارتي توانائي ۾ تبديل ڪرڻ لاءِ مختلف طريقن سان استعمال ڪندي، فلمي مواد کي گرم ڪيو ويندو آهي ته جيئن بخار ٿيڻ يا خارج ٿيڻ لاءِ گئس جي ذرڙن (ايٽمس، ماليڪيولز يا ايٽمي ڪلسٽرز) ۾ هڪ خاص مقدار (0.1 کان 0.3 eV) سان.
(2) گيس جا ذرڙا فلم جي مٿاڇري کي ڇڏي ويندا آهن ۽ هڪ خاص رفتار سان سبسٽرٽ جي مٿاڇري تي منتقل ڪيا ويندا آهن، لازمي طور تي بغير ڪنهن ٽڪر جي، سڌي لڪير ۾.
(3) گيس جا ذرڙا ذيلي ذخيري جي مٿاڇري تائين پهچن ٿا ۽ نيوڪليٽ، ۽ پوءِ وڌن ٿا هڪ مضبوط فيز فلم ۾.
(4) ري آرگنائيزيشن يا ڪيميائي بانڊنگ ايٽم جي جيڪا فلم ٺاهي ٿي.
2، بخارات جي گرمائش
(1) مزاحمتي حرارتي بخاري
مزاحمتي حرارتي بخارات تمام آسان ۽ عام طور تي استعمال ٿيل حرارتي طريقو آهي، عام طور تي 1500 ℃ کان هيٺ پگھلڻ واري پوائنٽ سان ڪوٽنگ مواد تي لاڳو ٿئي ٿو، تار يا شيٽ جي شڪل ۾ اعلي پگھلڻ واري نقطي دھات (W، Mo، Ti، Ta، بوران نائٽرائڊ، وغيره) آهن. عام طور تي هڪ مناسب شڪل ۾ ٺاهيو ويندو آهي evaporation ماخذ جي، evaporation مواد سان ڀريل، برقي ڪرنٽ جي جول گرمي ذريعي، پلاٽنگ مواد کي پگھلڻ، بخار ٿيڻ يا صاف ڪرڻ لاء، evaporation ذريعن جي شڪل ۾ خاص طور تي ملٽي اسٽرينڊ سرپل، U-shaped، sine wave شامل آهن. ٿلهي پليٽ، ٻيڙي، مخروطي ٽوڪري، وغيره. ساڳئي وقت، طريقي جي ضرورت آهي بخاري جو ذريعو مواد اعلي پگھلڻ واري نقطي، گهٽ سنترپشن وانپ پريشر، مستحڪم ڪيميائي ملڪيت، اعلي درجه حرارت تي ڪوٽنگ مواد سان ڪيميائي رد عمل نه آهي، سٺي گرمي جي مزاحمت، طاقت جي کثافت ۾ ننڍڙي تبديلي، وغيره. اهو بخارات جي ذريعن ذريعي تيز ڪرنٽ کي اپنائڻ لاءِ ان کي گرم ڪري ٿو ۽ فلم جي مواد کي سڌو گرم ڪرڻ سان ، يا فلمي مواد کي گريفائٽ جي ٺهيل ڪرسيبل ۾ وجهي ٿو ۽ خاص تيز حرارت جي مزاحمتي. ڌاتو آڪسائيڊ (جهڙوڪ A202، B0) ۽ ٻيو مواد اڻ سڌي طرح گرميءَ لاءِ بخار ٿيڻ لاءِ.
مزاحمتي حرارتي بخاري ڪوٽنگ جون حدون هونديون آهن: ريفرڪٽري ڌاتن ۾ بخار جو دٻاءُ گهٽ هوندو آهي، جنهن جي ڪري پتلي فلم ٺاهڻ مشڪل هوندو آهي.ڪجھ عناصر گرم ڪرڻ واري تار سان مصر ٺاهڻ لاء آسان آهن؛اهو مصر فلم جي هڪ يونيفارم انشا حاصل ڪرڻ آسان نه آهي.ڇاڪاڻ ته سادو ڍانچي، گهٽ قيمت ۽ مزاحمتي حرارتي بخاري جي آسان آپريشن جي ڪري، اهو هڪ تمام عام ايپليڪيشن آهي evaporation جو طريقو.
(2) اليڪٽران شعاع حرارتي بخاري
اليڪٽران شعاع جي بخارات ڪوٽنگ جي مواد کي بخار ڪرڻ جو هڪ طريقو آهي ان کي پاڻيءَ جي ٿڌي ٽامي جي ڪرسيبل ۾ رکي ان کي تيز توانائي واري کثافت واري اليڪٽران بيم سان بمباري ڪندي.بخارات جو ذريعو هڪ اليڪٽران جي اخراج جو ذريعو، هڪ اليڪٽران ايڪسلريشن پاور جو ذريعو، هڪ ڪرسيبل (عام طور تي ڪاپر ڪرسيبل)، هڪ مقناطيسي فيلڊ ڪوئل، ۽ هڪ کولنگ واٽر سيٽ وغيره تي مشتمل آهي. هن ڊوائيس ۾، گرم مواد کي پاڻيء ۾ رکيل آهي. -Cooled crucible، ۽ اليڪٽران بيم مواد جي صرف هڪ تمام ننڍڙي حصي تي بمباري ڪري ٿو، جڏهن ته باقي مواد جو گهڻو حصو صليب جي کولنگ اثر هيٺ تمام گهٽ درجه حرارت تي رهي ٿو، جنهن کي صليب جو بمبار ٿيل حصو سمجهي سگهجي ٿو.اهڙيء طرح، evaporation لاء اليڪٽران بيام گرم ڪرڻ جو طريقو ڪوٽنگ مواد ۽ evaporation ماخذ مواد جي وچ ۾ آلودگي کان پاسو ڪري سگهي ٿو.
اليڪٽران جي شعاع جي بخارات جي ماخذ جي جوڙجڪ کي ٽن قسمن ۾ ورهائي سگھجي ٿو: سڌي بندوقون (بوئلز گنز)، رنگ گنز (اليڪٽرانڪ طور تي ڦاٿل) ۽ اي-گنز (مقناطيسي طور تي ڦهليل).هڪ يا وڌيڪ ڪرسيبلز هڪ بخارات جي سهولت ۾ رکي سگهجن ٿيون، جيڪي هڪ ئي وقت يا الڳ الڳ ڪيترن ئي شين کي بخار ۽ جمع ڪري سگهن ٿيون.
اليڪٽران بيم evaporation ذريعن هيٺ ڏنل فائدا آهن.
① اليڪٽران بيم بمبئيشن جي واپرائي ماخذ جي اعلي بيم جي کثافت مزاحمتي حرارتي ماخذ کان تمام گهڻي توانائي جي کثافت حاصل ڪري سگهي ٿي، جيڪا اعلي پگھلڻ واري نقطي مواد، جهڙوڪ W، Mo، Al2O3 وغيره کي خارج ڪري سگهي ٿي.
②The coating material is رکيل آهي پاڻيءَ جي ٿڌي ٽامي جي صليب ۾، جيڪا evaporation جي ماخذ جي مواد جي بخارات ۽ انهن جي وچ ۾ رد عمل کان بچي سگهي ٿي.
③ گرمي کي سڌو سنئون ڪوٽنگ مواد جي مٿاڇري تي شامل ڪري سگهجي ٿو، جيڪو حرارتي ڪارڪردگي کي بلند ڪري ٿو ۽ گرمي جي وهڪري جي نقصان ۽ گرمي تابڪاري کي گهٽ ڪري ٿو.
اليڪٽران بيم جي گرمائش جي تباهي واري طريقي جو نقصان اهو آهي ته اليڪٽران گن مان پرائمري اليڪٽران ۽ ڪوٽنگ مواد جي مٿاڇري کان ثانوي اليڪٽران بخار ٿيڻ واري ايٽمس ۽ بقايا گيس ماليڪيولز کي آئنائيز ڪندا، جيڪو ڪڏهن ڪڏهن فلم جي معيار کي متاثر ڪندو.
(3) هاء فریکوئنسي انڊڪشن حرارتي بخاري
هاءِ فريڪوئنسي انڊڪشن گرمائش جي بخارات کي ڪوٽنگ مواد سان گڏ اعلي فريڪوئنسي سرپل ڪوئل جي مرڪز ۾ رکڻو آهي، انهي ڪري ته ڪوٽنگ مواد تيز فريڪوئنسي برقي مقناطيسي فيلڊ جي انڊڪشن هيٺ مضبوط ايدي ڪرنٽ ۽ هسٽريسس اثر پيدا ڪري ٿو، جنهن جي ڪري فلم جي پرت کي گرم ڪرڻ لاءِ جيستائين اهو بخارات ۽ بخارات نه بڻجي.واپرائيشن جو ذريعو عام طور تي پاڻيء جي ٿڌي تيز فريڪوئنسي ڪوئل ۽ گريفائٽ يا سيرامڪ (ميگنيشيم آڪسائيڊ، ايلومينيم آڪسائيڊ، بوران آڪسائيڊ، وغيره) تي مشتمل هوندو آهي.اعلي تعدد پاور سپلائي ڏهن هزارن کان ڪيترن ئي سئو هزار هز جي فريڪوئنسي استعمال ڪري ٿي، ان پٽ پاور ڪيترن ئي سئو ڪلواٽٽ آهي، جھلي جي مواد جو حجم ننڍڙو، انڊڪشن فريڪوئنسي وڌيڪ آهي.انڊڪشن ڪوئل فریکوئنسي عام طور تي پاڻي جي ٿڌي ٽامي واري ٽيوب مان ٺهيل آهي.
تيز فريڪوئنسي انڊڪشن حرارتي بخاري واري طريقي جو نقصان اهو آهي ته ان پٽ پاور کي ٺيڪ ڪرڻ آسان ناهي، ان جا هيٺيان فائدا آهن.
①High evaporation جي شرح
② evaporation ذريعن جو گرمي پد يونيفارم ۽ مستحڪم آهي، تنهنڪري اهو ڪوٽنگ droplets splash جي رجحان پيدا ڪرڻ آسان نه آهي، ۽ ان کي به جمع فلم تي pinholes جي رجحان کان پاسو ڪري سگهو ٿا.
③ بخارات جو ذريعو هڪ ڀيرو لوڊ ڪيو ويندو آهي، ۽ گرمي پد نسبتا آسان ۽ ڪنٽرول ڪرڻ آسان آهي.
پوسٽ جو وقت: آڪٽوبر-28-2022