1. බෝම්බ පිරිසිදු කිරීමේ උපස්ථරය
1.1) උපස්ථරය පිරිසිදු කිරීම සඳහා ස්පුටරින් ආලේපන යන්ත්රය දිලිසෙන විසර්ජනය භාවිතා කරයි.එනම්, ආගන් වායුව කුටියට ආරෝපණය කරන්න, විසර්ජන වෝල්ටීයතාව 1000V පමණ වේ, බල සැපයුම ක්‍රියාත්මක කිරීමෙන් පසු දිලිසෙන විසර්ජනයක් ජනනය වේ, සහ උපස්ථරය ආගන් අයන බෝම්බ හෙලීමෙන් පිරිසිදු කරයි.
1.2) කාර්මිකව ඉහළ මට්ටමේ ආභරණ නිපදවන ස්පුටරින් ආලේපන යන්ත්‍රවල, කුඩා චාප ප්‍රභවයන් මගින් විමෝචනය වන ටයිටේනියම් අයන වැඩි වශයෙන් පිරිසිදු කිරීම සඳහා යොදා ගනී.ස්පුටරින් ආලේපන යන්ත්රය කුඩා චාප ප්‍රභවයකින් සමන්විත වන අතර කුඩා චාප ප්‍රභව විසර්ජනය මගින් ජනනය වන චාප ප්ලාස්මාවේ ඇති ටයිටේනියම් අයන ප්රවාහය බෝම්බ හෙලීමට සහ උපස්ථරය පිරිසිදු කිරීමට යොදා ගනී.
2. ටයිටේනියම් නයිට්රයිඩ් ආලේපනය
ටයිටේනියම් නයිට්රයිඩ් තුනී පටල තැන්පත් කිරීමේදී, ඉසීම සඳහා ඉලක්කගත ද්‍රව්‍ය වන්නේ ටයිටේනියම් ඉලක්කයයි.ඉලක්ක ද්රව්යය sputtering බල සැපයුමේ සෘණ ඉලෙක්ට්රෝඩයට සම්බන්ධ වන අතර, ඉලක්කගත වෝල්ටීයතාවය 400 ~ 500V වේ;ආගන් ප්රවාහය සවි කර ඇති අතර පාලන රික්තය (3~8) x10 වේ.-1PAඋපස්ථරය 100 ~ 200V වෝල්ටීයතාවයකින් යුත්, පක්ෂග්රාහී බල සැපයුමේ සෘණ ඉලෙක්ට්රෝඩයට සම්බන්ධ වේ.
ඉසින ටයිටේනියම් ඉලක්කයේ බල සැපයුම ක්‍රියාත්මක කිරීමෙන් පසු, දිලිසෙන විසර්ජනයක් ජනනය වන අතර, අධි ශක්ති ආගන් අයන ඉසින ඉලක්කයට බෝම්බ හෙලන අතර, ඉලක්කයෙන් ටයිටේනියම් පරමාණු ඉසිනු ඇත.
ප්‍රතික්‍රියා වායුව නයිට්‍රජන් හඳුන්වා දී ඇති අතර, ටයිටේනියම් පරමාණු සහ නයිට්‍රජන් ආෙල්පන කුටියේ ටයිටේනියම් අයන සහ නයිට්‍රජන් අයන බවට අයනීකරණය වේ.උපස්ථරයට යොදන සෘණ පක්ෂග්රාහී විද්‍යුත් ක්ෂේත්‍රයේ ආකර්ෂණය යටතේ, ටයිටේනියම් අයන සහ නයිට්‍රජන් අයන උපස්ථරයේ මතුපිටට වේගවත් වී රසායනික ප්‍රතික්‍රියාව සහ තැන්පත් වීම සඳහා ටයිටේනියම් නයිට්රයිඩ් පටල තට්ටුවක් සාදයි.
3. උපස්ථරය පිටතට ගන්න
කලින් තීරණය කළ පටල ඝනකමට ළඟා වූ පසු, ඉසින බල සැපයුම, උපස්ථර පක්ෂග්රාහී බල සැපයුම සහ වායු ප්‍රභවය අක්‍රිය කරන්න.උපස්ථර උෂ්ණත්වය 120 ℃ ට වඩා අඩු වූ පසු, ආලේපන කුටිය වාතයෙන් පුරවා උපස්ථරය පිටතට ගන්න.
විසින් මෙම ලිපිය පළ කර ඇතමැග්නට්‍රෝන් ස්පුටරින් ආලේපන යන්ත්‍ර නිෂ්පාදකයා- Guangdong Zhenhua.
පසු කාලය: අප්රේල්-07-2023