① Dobrá ovládateľnosť a opakovateľnosť hrúbky filmu
To, či možno hrúbku filmu regulovať na vopred určenú hodnotu, sa nazýva regulovateľnosť hrúbky filmu.Požadovanú hrúbku filmu možno mnohokrát opakovať, čo sa nazýva opakovateľnosť hrúbky filmu. Pretože výbojový prúd a cieľový prúd vákuového naprašovacieho povlaku je možné ovládať oddelene.Hrúbku naprašovaného filmu je teda možné kontrolovať a film s vopred stanovenou hrúbkou možno spoľahlivo nanášať.Okrem toho môže naprašovanie získať film s rovnomernou hrúbkou na veľkom povrchu.
② Silná priľnavosť medzi filmom a substrátom
Energia rozprášených atómov je o 1-2 rády vyššia ako energia odparených atómov.Energetická premena vysokoenergetických naprašovaných atómov uložených na substráte je oveľa vyššia ako u odparených atómov, čo vytvára vyššie teplo a zvyšuje adhéziu medzi naprašovanými atómami a substrátom.Okrem toho niektoré vysokoenergetické rozprašované atómy produkujú rôzne stupne vstrekovania a vytvárajú na substráte pseudodifúznu vrstvu.Okrem toho je substrát vždy vyčistený a aktivovaný v oblasti plazmy počas procesu tvorby filmu, ktorý odstraňuje naprašovacie atómy so slabou adhéziou a čistí a aktivuje povrch substrátu.Preto má naprašovaný film silnú priľnavosť k podkladu.
③ Je možné pripraviť nový materiálový film odlišný od cieľa
Ak sa počas rozprašovania zavedie reaktívny plyn, aby reagoval s terčom, možno získať nový materiálový film úplne odlišný od terča.Napríklad kremík sa používa ako rozprašovací terč a kyslík a argón sa vkladajú do vákuovej komory spoločne.Po naprašovaní je možné získať izolačný film SiOz.Použitím titánu ako terča na naprašovanie sa dusík a argón vložia do vákuovej komory spoločne a po naprašovaní možno získať fázový film podobný zlatu TiN.
④ Vysoká čistota a dobrá kvalita filmu
Pretože v zariadení na prípravu filmu na naprašovanie nie je žiadna zložka téglika, zložky materiálu ohrievača téglika sa vo vrstve filmu na naprašovanie nezmiešajú.Nevýhody naprašovania spočívajú v tom, že rýchlosť tvorby filmu je pomalšia ako rýchlosť odparovania, teplota substrátu je vyššia, je ľahké ho ovplyvniť plynom nečistôt a štruktúra zariadenia je zložitejšia.
Tento článok publikuje Guangdong Zhenhua, výrobcavákuové lakovacie zariadenia
Čas odoslania: Mar-09-2023