Proces priamej polymerizácie v plazme

Proces priamej polymerizácie v plazme

Proces plazmovej polymerizácie je relatívne jednoduchý ako pre interné elektródové polymerizačné zariadenie, tak pre externé elektródové polymerizačné zariadenie, ale výber parametrov je dôležitejší pri plazmovej polymerizácii, pretože parametre majú väčší vplyv na štruktúru a výkon polymérnych filmov počas plazmovej polymerizácie.

Prevádzkové kroky pre priamu plazmovú polymerizáciu sú nasledovné:

(1) Vysávanie

Vákuum pozadia polymerizácie za podmienok vákua by malo byť čerpané na 1,3 x 10-1 Pa.Pre polymerizačné reakcie, ktoré vyžadujú špeciálne požiadavky na kontrolu obsahu kyslíka alebo dusíka, je požiadavka na vákuum pozadia ešte vyššia.

(2) Vsádzkový reakčný monomér alebo zmesový plyn nosného plynu a monoméru

Stupeň vákua je 13-130 Pa.Pre plazmovú polymerizáciu, ktorá si vyžaduje prácu, je potrebné zvoliť vhodný režim riadenia prietoku a prietok, všeobecne 10,100 ml/min.V plazme sú molekuly monomérov ionizované a disociované bombardovaním energetických častíc, čo vedie k aktívnym časticiam, ako sú ióny a aktívne gény.Aktívne častice aktivované plazmou môžu podstúpiť plazmovú polymerizáciu na rozhraní plynnej fázy a pevnej fázy.Monomér je zdrojom prekurzora pre plazmovú polymerizáciu a vstupný reakčný plyn a monomér musia mať určitú čistotu.

(3) Výber napájacieho zdroja budenia

Plazmu je možné generovať pomocou jednosmerných, vysokofrekvenčných, RF alebo mikrovlnných zdrojov energie, aby sa vytvorilo plazmové prostredie pre polymerizáciu.Výber napájacieho zdroja je určený na základe požiadaviek na štruktúru a výkon polyméru.

(4) Výber režimu vybíjania

Pre požiadavky na polymér môže plazmová polymerizácia zvoliť dva režimy výboja: kontinuálny výboj alebo pulzný výboj.

(5) Výber parametrov vypúšťania

Pri vykonávaní plazmovej polymerizácie je potrebné zvážiť parametre výboja z parametrov plazmy, vlastností polyméru a požiadaviek na štruktúru.Veľkosť aplikovaného výkonu počas polymerizácie je určená objemom vákuovej komory, veľkosťou elektródy, prietokom a štruktúrou monoméru, rýchlosťou polymerizácie a štruktúrou a výkonom polyméru.Napríklad, ak je objem reakčnej komory 1 l a použije sa RF plazmová polymerizácia, výbojový výkon bude v rozsahu 10~30W.Za takýchto podmienok môže generovaná plazma agregovať a vytvárať tenký film na povrchu obrobku.Rýchlosť rastu plazmového polymerizačného filmu sa mení v závislosti od napájania, typu monoméru a prietoku a podmienok procesu.Vo všeobecnosti je rýchlosť rastu 100 nm/min~1 um/min.

(6) Meranie parametrov pri plazmovej polymerizácii

Parametre plazmy a parametre procesu, ktoré sa majú merať pri plazmovej polymerizácii, zahŕňajú: výbojové napätie, výbojový prúd, frekvenciu výboja, elektrónovú teplotu, hustotu, typ a koncentráciu reakčnej skupiny atď.

——Tento článok vydala spoločnosť Guangdong Zhenhua Technology, avýrobca strojov na optické poťahovanie.