Vitajte v spoločnosti Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Novinky z odvetvia
-
Druhy tvrdých povlakov
TiN je najstarší tvrdý povlak používaný v rezných nástrojoch s výhodami, ako je vysoká pevnosť, vysoká tvrdosť a odolnosť proti opotrebovaniu. Je to prvý industrializovaný a široko používaný tvrdý povlakový materiál, ktorý sa bežne používa v povlakovaných nástrojoch a povlakovaných formách. Tvrdý povlak TiN bol pôvodne nanášaný pri teplote 1000 ℃...Čítať ďalej -
Charakteristiky modifikácie plazmového povrchu
Vysokoenergetická plazma môže bombardovať a ožarovať polymérne materiály, čím narúša ich molekulárne reťazce, vytvára aktívne skupiny, zvyšuje povrchovú energiu a spôsobuje leptanie. Plazmová povrchová úprava neovplyvňuje vnútornú štruktúru a vlastnosti sypkého materiálu, ale iba významne...Čítať ďalej -
Proces iónového povlakovania malým oblúkovým zdrojom
Proces nanášania iónov pomocou katódového oblúkového zdroja je v podstate rovnaký ako pri iných technológiách nanášania a niektoré operácie, ako je inštalácia obrobkov a vysávanie, sa už neopakujú. 1. Čistenie obrobkov bombardovaním Pred nanášaním sa do nanášacej komory zavádza argónový plyn pomocou...Čítať ďalej -
Charakteristiky a metódy generovania toku oblúkových elektrónov
1. Charakteristika toku elektrónov v oblúkovom výboji Hustota toku elektrónov, toku iónov a vysokoenergetických neutrálnych atómov v oblúkovej plazme generovanej oblúkovým výbojom je oveľa vyššia ako v prípade tlejúceho výboja. Je v nej ionizovaných viac plynových a kovových iónov, excitovaných vysokoenergetických atómov a rôznych aktívnych skupín...Čítať ďalej -
Oblasti použitia modifikácie plazmového povrchu
1) Modifikácia povrchu plazmou sa vzťahuje najmä na určité modifikácie papiera, organických fólií, textílií a chemických vlákien. Použitie plazmy na modifikáciu textílií nevyžaduje použitie aktivátorov a proces úpravy nepoškodzuje vlastnosti samotných vlákien. ...Čítať ďalej -
Aplikácia iónového povlaku v oblasti optických tenkých vrstiev
Použitie optických tenkých vrstiev je veľmi rozsiahle a siaha od okuliarov, objektívov fotoaparátov, fotoaparátov mobilných telefónov, LCD obrazoviek pre mobilné telefóny, počítače a televízory, LED osvetlenie, biometrické zariadenia až po energeticky úsporné okná v automobiloch a budovách, ako aj lekárske prístroje, te...Čítať ďalej -
Informačné zobrazovacie fólie a technológia iónového nanášania
1. Typ filmu v informačnom displeji Okrem tenkých filmov TFT-LCD a OLED obsahuje informačný displej aj filmy s vodičovými elektródami a priehľadné filmy s pixelovými elektródami v zobrazovacom paneli. Proces nanášania povrchovej úpravy je základným procesom displejov TFT-LCD a OLED. Vďaka nepretržitému procesu...Čítať ďalej -
Zákon rastu vrstvy vákuového odparovania povlakovej fólie
Počas odparovania je nukleácia a rast filmovej vrstvy základom rôznych technológií iónového povlakovania 1. Nukleácia Pri technológii vákuového odparovania sa častice filmovej vrstvy po odparení zo zdroja odparovania vo forme atómov dostanú priamo do...Čítať ďalej -
Spoločné vlastnosti vylepšenej technológie iónového nanášania tlejúcim výbojom
1. Nízke predpätie obrobku Vďaka pridaniu zariadenia na zvýšenie rýchlosti ionizácie sa zvyšuje hustota výbojového prúdu a predpätie sa znižuje na 0,5 ~ 1 kV. Spätné naprašovanie spôsobené nadmerným bombardovaním vysokoenergetickými iónmi a poškodením povrchu obrobku...Čítať ďalej -
Výhody valcových terčov
1) Valcové terče majú vyššiu mieru využitia ako planárne terče. V procese nanášania povlaku, či už ide o rotačný magnetický typ alebo valcový naprašovací terč s rotačnou trubicou, všetky časti povrchu terčovej trubice nepretržite prechádzajú naprašovacou plochou vytvorenou pred...Čítať ďalej -
Proces priamej polymerizácie plazmou
Proces priamej polymerizácie plazmou Proces plazmovej polymerizácie je relatívne jednoduchý pre zariadenia na polymerizáciu s vnútornou elektródou aj pre zariadenia na polymerizáciu s vonkajšou elektródou, ale výber parametrov je pri plazmovej polymerizácii dôležitejší, pretože parametre majú väčší...Čítať ďalej -
Technológia plazmového chemického nanášania z pár s vylepšeným oblúkom horúcim drôtom
Technológia plazmového chemického nanášania z pár s využitím oblúka s horúcim drôtom využíva na vyžarovanie oblúkovej plazmy oblúkovú pištoľ s horúcim drôtom, skrátene nazývanú technológia PECVD s horúcim drôtom. Táto technológia je podobná technológii iónového nanášania oblúkom s horúcim drôtom, ale rozdiel je v tom, že pevný film získaný...Čítať ďalej -
Úvod do konvenčných techník nanášania tvrdých povlakov
1. Technológia tepelného CVD Tvrdé povlaky sú väčšinou kovovo-keramické povlaky (TiN atď.), ktoré vznikajú reakciou kovu v povlaku a reaktívnym splyňovaním. Technológia tepelného CVD sa spočiatku používala na zabezpečenie aktivačnej energie kombinovanej reakcie tepelnou energiou pri ...Čítať ďalej -
Čo je to odporový odparovací zdroj nanášania?
Nanášanie povrchovej úpravy odporovým odparovaním je základná metóda vákuového odparovania. „Odparovanie“ označuje metódu prípravy tenkého filmu, pri ktorej sa povlakový materiál vo vákuovej komore zahrieva a odparuje, takže atómy alebo molekuly materiálu sa odparujú a unikajú z...Čítať ďalej -
Úvod do technológie katódového oblúkového iónového pokovovania
Technológia katódového oblúkového iónového pokovovania využíva technológiu oblúkového výboja v studenom poli. Najstaršiu aplikáciu technológie oblúkového výboja v studenom poli v oblasti pokovovania vykonala spoločnosť Multi Arc Company v Spojených štátoch. Anglický názov tohto postupu je oblúkové iónové pokovovanie (AIP). Katódové oblúkové iónové pokovovanie...Čítať ďalej
