1. Thevakuumsko izhlapevanjeproces vključuje izhlapevanje filmskih materialov, transport parnih atomov v visokem vakuumu ter proces nukleacije in rasti parnih atomov na površini obdelovanca.
2. Stopnja vakuumskega nanosa prevleke z vakuumskim izhlapevanjem je visoka, na splošno 10-510-3Pa. Prosta pot molekul plina je 1 ~ 10 m reda velikosti, kar je veliko več kot razdalja od vira izhlapevanja do obdelovanca, ta razdalja se imenuje razdalja izhlapevanja, običajno 300 ~ 800 mm.Delci prevleke le stežka trčijo ob molekule plina in parne atome ter dosežejo obdelovanec.
3. Plast premaza z vakuumskim izhlapevanjem ni navita in parni atomi gredo naravnost na obdelovanec pod visokim vakuumom.Samo stran, ki je obrnjena proti viru izhlapevanja na obdelovancu, lahko pridobi filmsko plast, stran in zadnja stran obdelovanca pa skoraj ne moreta dobiti filmske plasti, filmska plast pa ima slabo prevleko.
4. Energija delcev sloja premaza z vakuumskim izhlapevanjem je nizka, energija, ki doseže obdelovanec, pa je toplotna energija, ki jo prenaša izhlapevanje.Ker obdelovanec med nanosom z vakuumskim izhlapevanjem ni pristranski, se kovinski atomi med izhlapevanjem zanašajo le na toploto izparevanja, temperatura izhlapevanja je 1000 ~ 2000 °C, prenesena energija pa je enakovredna 0,1 ~ 0,2 eV, tako da je energija filmskih delcev je malo, vezna sila med filmsko plastjo in matriko je majhna in težko je oblikovati sestavljeni premaz.
5. Plast premaza z vakuumsko izparevanjem ima fino strukturo.Postopek nanašanja z vakuumsko izparevanjem se oblikuje pod visokim vakuumom, delci filma v pari pa so v bistvu atomske lestvice in tvorijo fino jedro na površini obdelovanca.
Čas objave: 14. junij 2023