O le a le faʻavae galue o le masini faʻapipiʻi ion

Uiga ionmasini na afua mai i le aʻoaʻoga na faʻatulagaina e DM Mattox i le 1960s, ma faʻataʻitaʻiga tutusa na amata i lena taimi;Se'ia o'o i le 1971, na fa'asalalau e Chambers ma isi le fa'atekonolosi o le fa'apipi'i ion beam electron;O le reactive evaporation plating (ARE) tekinolosi na faʻaalia i le lipoti a Bunshah i le 1972, ina ua gaosia ituaiga ata tifaga e pei o TiC ma TiN;I le 1972 foi, na faʻaaogaina ai e Smith ma Molley le tekonolosi o le cathode omo i le faʻagasologa o le ufiufi.E oo atu i le vaitau o le 1980, o le faʻapipiʻiina o ion i Saina na iu lava ina oʻo i le maualuga o le faʻaogaina o fale gaosimea, ma o faiga faʻapipiʻi e pei o le vacuum multi-arc ion plating ma le arc-discharge ion plating na faʻasolosolo faʻaalia.

O le faagasologa atoa o galuega o le vacuum ion plating e faapea: muamua,pamule potu vacuum, ona sosoo ai leafaatalile mamafa o le masini i le 4X10 ⁻ ³ Pape sili atu, e tatau ona faʻafesoʻotaʻi le eletise eletise maualuga ma fausia se vaega maualalo o le vevela o le plasma o le kasa faʻasalalau maualalo i le va o le substrate ma le evaporator.Fa'afeso'ota'i le fa'aeletise fa'apipi'i fa'atasi ma le 5000V DC le lelei maualuga voltage e fa'atupuina ai se fa'amumu fa'apogai o le cathode.E fa'atupuina iona kasa inert i tafatafa o le vaega o le susulu leaga.Latou te ulu atu i totonu o le cathode nofoaga pogisa ma faʻavaveina e le eletise eletise ma osofaʻia luga o le substrate.Ole faiga ole fa'amamāina lea, ona fa'aulu ai lea ile fa'agasologa o le ufiufi.E ala i le a'afiaga o le fa'avevelaina o le pomu, o nisi mea fa'apipi'i e fa'aasa.O le vaega o le plasma e ulu atu i totonu o protons, faʻafefeteina ma electrons ma inert kasa ions, ma o se vaega itiiti o latou ua ionized, O nei ionized ion ma le malosi maualuga o le a osofaʻia le ata tifaga ma faʻaleleia le lelei o le ata i se tulaga.

O le mataupu faavae o le vacuum ion plating o le: i totonu o le vacuum chamber, faʻaaogaina le kesi faʻalavelave faʻafuaseʻi poʻo le vaega ionized o le mea faʻafefe, i lalo o le osofaʻiga o mea faʻafefeteina poʻo le kesi, faʻapipiʻi i le taimi lava e tasi nei mea faʻafefe poʻo a latou tali i luga o le substrate. ia maua se ata manifinifi.O le ion coatingmasinituʻufaʻatasia le vacuum evaporation, plasma technology ma le gas glow discharge, lea e le gata ina faʻaleleia ai le ata tifaga, ae faʻalauteleina ai foi le faʻaogaina o le faʻaogaina o le ata.O le lelei o lenei faagasologa o le malosi o le faʻafefeteina, faʻapipiʻi lelei ata tifaga, ma mea faʻapipiʻi eseese.O le mataupu faavae o le faʻapipiʻiina o ion na muamua faʻatulagaina e DM Mattox.E tele ituaiga o ion plateing.O le ituaiga sili ona taatele o le faʻavevelaina o le vevela, e aofia ai le faʻavevelaina o le tetee, faʻavevela eletise eletise, faʻavevela eletise eletise eletise plasma, faʻavevela faʻavavevave ma isi auala faʻamafanafana.