1, uiga o le sputter coating
Pe a fa'atusatusa i le fa'amama fa'amama fa'afefete masani, o le sputtering coating ei ai uiga nei:
(1) Soʻo se mea e mafai ona faʻafefe, aemaise lava le maualuga o le liusuavai, elemene maualalo o le mamafa o le ausa ma mea faʻapipiʻi.O le umi lava o se mea mautu, pe o se uʻamea, semiconductor, insulator, faʻafefiloi ma paluga, ma isi, pe o se poloka, mea granular e mafai ona faʻaaogaina e fai ma mea faʻatatau.Talu ai ona o le itiiti o le pala ma le vaevaega e tupu pe a sputtering mea insulating ma alloys e pei o oxides, e mafai ona faaaoga e saunia ai ata manifinifi ma u'amea ata ma vaega tutusa tutusa ma mea o le mea autu, ma e oo lava superconducting ata tifaga ma fatuga lavelave.' I se faaopoopoga, e mafai foi ona faaaoga le auala sputtering reactive e maua ai ata tifaga o tuufaatasiga e matua ese lava mai le mea autu, e pei o oxides, nitride, carbide ma silicides.
(2) Lelei faʻapipiʻi i le va o le ata tifaga sputtered ma le substrate.Talu ai o le malosi o atoms sputtered e 1-2 poloaiga o le maualuga maualuga atu nai lo atoms evaporated, o le liua o le malosi o vaega maualuga-malosi e teuina i luga o le substrate e maua ai le malosi vevela maualuga, lea e faʻaleleia ai le pipii o atoms sputtered i le substrate.O se vaega o atoms sputtered maualuga-malosi o le a tui i ni tikeri eseese, e fausia ai se mea e taʻua o le pseudo-diffusion layer i luga o le substrate lea o le sputtered atoms ma atoms o mea substrate "miscible" ma le tasi.E le gata i lea, i le taimi o le osofaʻia o mea faʻapitoa, o le substrate e faʻamamaina i taimi uma ma faʻagaoioia i totonu o le plasma sone, lea e aveesea ai atoms faʻafefeteina le pipii, faʻamamaina ma faʻagaoioia le substrate surface.O se taunuuga, o le pipii o le lapisi ata tifaga sputtered i le substrate ua matua faʻaleleia.
(3) Le maualuga maualuga o le faʻapipiʻiina o le sputter, faʻaitiitia le pine, ma le maualuga o le mama o le ata tifaga ona e leai se faʻamaʻi pipisi, lea e le mafai ona alofia i le faʻaputuina o le ausa vacuum i le faagasologa o le faʻaogaina o le sputter.
(4) Lelei le pulea ma le toe faʻaleleia o le mafiafia ata.Talu ai ona o le faʻamalo o le taimi nei ma le faʻasologa o loʻo i ai nei e mafai ona pulea faʻapitoa i le taimi o le ufiufi o le sputter, e mafai ona pulea le mafiafia o ata e ala i le puleaina o le faʻaogaina o loʻo i ai nei, o le mea lea, o le puleaina o le mafiafia o ata tifaga ma le toe gaosia o le mafiafia ata e ala i le tele o sputtering o sputter coating e lelei. , ma o le ata o le mafiafia ua uma ona fuafuaina e mafai ona ufiufi lelei.E le gata i lea, e mafai e le faʻapipiʻiina o le sputter ona maua se mafiafia ata tifaga i luga o se vaega tele.Ae ui i lea, mo tekinolosi faʻapipiʻiina lautele (e masani lava o le dipole sputtering), o meafaigaluega e faigata ma e manaʻomia ai le masini maualuga;e maualalo le saoasaoa o le fausiaina o ata tifaga, o le fua faatatau o le faʻafefe o le gaogao e 0.1 ~ 5nm / min, aʻo le fua o le sputtering o le 0.01 ~ 0.5nm / min;o le maualuga o le vevela o le substrate e maualuga ma faigofie ona afaina i le kesi le mama, ma isi. Ae ui i lea, ona o le atinaʻeina o le RF sputtering ma le magnetron sputtering technology, ua maua ai le alualu i luma tele i le ausiaina o le faʻavaveina o le faʻamaʻi vave ma le faʻaitiitia o le vevela o le substrate.E le gata i lea, i tausaga talu ai nei, o loʻo suʻesuʻeina auala fou e faʻapipiʻi ai - e faʻavae i luga o le planar magnetron sputtering - e faʻaitiitia ai le mamafa o le ea seʻia oʻo i le zero-pressure sputtering lea o le mamafa o le kesi faʻaaoga i le taimi o le sputtering o le a leai.
Taimi meli: Nov-08-2022