Horudhac dhigista uumiga faakuumka, sputtering iyo dahaarka ion

Dahaarka Vacuum inta badan waxaa ka mid ah kaydinta uumiga faakuumka, daahan daahan iyo daahan ion, kuwaas oo dhan waxaa loo isticmaalaa in lagu shubo biraha kala duwan iyo filimada aan biraha ah dusha qaybaha balaastiig by shaandheyn ama sputtering hoos xaaladaha vacuum, taas oo ka heli kartaa daahan dusha aad dhuuban. iyada oo faa'iidada aadka u fiican ee ku dheggan degdega ah, laakiin qiimuhu sidoo kale wuu sarreeyaa, iyo noocyada biraha lagu shaqayn karo way ka yar yihiin, waxaana guud ahaan loo isticmaalaa daahan shaqada ee alaabta heerka sare ah.

Dhigista uumiga Vacuum waa hab lagu kululeeyo birta hoostiisa faakuum sare, samaynta dhalaalaysa, uumibaxa, iyo samaynta filim bir khafiif ah oogada sambalka ka dib qaboojinta, dhumucdiisuna waa 0.8-1.2 um.Waxay buuxisaa qaybaha yar yar ee isku dhejisan ee dusha sare ee alaabta la sameeyay si loo helo muraayad u eg.Marka la sameeyo uumiga faakuumka ama si loo helo saameyn muraayad ah ama si loo faaruqiyo birta leh dhejis hooseeya, dusha hoose ee dusha sare. waa in la dahaadho.

Tuuritaanka inta badan waxaa loola jeedaa sputtering magnetron, taas oo ah habka xawaare sare ee heerkulka hoose.Nidaamku wuxuu u baahan yahay faakuum ku saabsan 1 × 10-3Torr, taas oo ah 1.3 × 10-3Pa vacuum state oo ay ka buuxaan argon gaaska aan shaqayn (Ar), iyo inta u dhaxaysa substrate caag ah (anode) iyo bartilmaameedka birta (cathode) oo lagu daray koronto-sare hadda toos ah, sababtuna tahay kicinta elektarooniga ah ee gaasta aan shaqayn ee uu dhaliyo dareeraha dhalaalka ah, soo saarista balaasmaha, balaasmadu waxay qarxin doontaa atamka bartilmaameedka birta oo ay ku shubto substrate caag ah.Inta badan dahaarka guud ee birta ah waxay adeegsadaan sputtering DC, halka walxaha dhoobada ah ee aan shaqaynayn ay isticmaalaan RF AC sputtering.

Dahaarka Ion waa hab ka soo baxa gaaska loo isticmaalo in qayb ahaan ionize gaaska ama walaxda la uumibixiyey ee xaaladaha faakuumka, iyo walaxda la uumibixiyey ama falcelinteeda waxaa lagu shubaa substrate iyada oo la duqeeyo ions gaaska ama ions ee walaxda la uumibixiyey.Kuwaas waxaa ka mid ah daahan magnetron sputtering ion, daahan fal-celinta ion, daahan dheecaanka cathode godan (habka bannaan ee uumiga cathode meel bannaan), iyo daahan multi-arc ion (cathode arc ion daahan).

Magnetron oo laba-geesood ah oo toosan oo daahan joogto ah oo safka ku jira
Codsasho ballaaran, waxaa loo isticmaali karaa alaabada elektiroonigga ah sida lakabka gaashaanka ee qolofka qolofka EMI, alaab guri, iyo xitaa dhammaan alaabooyinka koobka laambada ee cabbir dhererka go'an waa la soo saari karaa.Awood rarid weyn, isku dhejin is haysta iyo isku dhejinta koobabka iftiinka koonka ah ee dahaarka laba-geesoodka ah, kaas oo yeelan kara awood rarid weyn.Tayada xasilloon, joogtaynta wanaagsan ee lakabka filimka laga bilaabo dufcad ilaa dufcad.Heer sare oo otomaatig ah iyo kharashka shaqada oo socda oo hooseeya.