1. Подлога за чишћење бомбардовања
1.1) Машина за наношење премаза користи сјајно пражњење за чишћење подлоге.Односно, напуните гас аргона у комору, напон пражњења је око 1000В, након укључивања напајања, генерише се усијано пражњење, а подлога се чисти бомбардовањем јона аргона.
1.2) У машинама за наношење премаза које индустријски производе врхунске украсе, јони титанијума које емитују мали извори лука се углавном користе за чишћење.Машина за наношење премаза је опремљена малим извором лука, а струја јона титанијума у лучној плазми која се генерише пражњењем извора малог лука користи се за бомбардовање и чишћење подлоге.
2. Облога титанијум нитрида
Приликом наношења танких филмова титанијум нитрида, циљни материјал за распршивање је мета титанијума.Циљни материјал је повезан са негативном електродом извора напајања за распршивање, а циљни напон је 400~500В;Флукс аргона је фиксан, а контролни вакуум је (3~8) к10-1ПА.Подлога је повезана са негативном електродом извора напајања, са напоном од 100~200В.
Након укључивања напајања титанијумске мете која се распршује, ствара се усијано пражњење, а јони аргона високе енергије бомбардују мету за распршивање, избацујући атоме титанијума из мете.
Уводи се реакциони гас азота, а атоми титанијума и азота се јонизују у јоне титанијума и јоне азота у комори за облагање.Под привлачењем негативног пристрасног електричног поља примењеног на подлогу, јони титанијума и јони азота убрзавају до површине супстрата ради хемијске реакције и таложења да би се формирао слој филма титанијум нитрида.
3. Извадите подлогу
Након достизања унапред одређене дебљине филма, искључите напајање за распршивање, напајање подлоге и извор ваздуха.Након што је температура подлоге нижа од 120 ℃, напуните комору за премаз ваздухом и извадите подлогу.
Овај чланак је објавиопроизвођач машина за премазивање магнетроном– Гуангдонг Женхуа.
Време поста: Апр-07-2023