Перформансе различитих вакуум пумпи имају и друге разлике осим могућности пумпања вакуума у комору.Због тога је веома важно разјаснити посао који пумпа обавља у вакуум систему приликом избора, а улога коју пумпа има у различитим радним пољима је сажета на следећи начин.
1、Бити главна пумпа у систему
Главна пумпа је вакуумска пумпа која директно пумпа пумпну комору вакуумског система да би се постигао степен вакуума потребан за испуњавање захтева процеса.
2 、 Пумпа за грубо пумпање
Пумпа за грубо пумпање је вакуум пумпа која почиње да се смањује од притиска ваздуха и притисак вакуумског система достиже други пумпни систем који може да почне да ради.
3、Пре-степен пумпа
Предстепена пумпа је вакуумска пумпа која се користи за одржавање предстепеног притиска друге пумпе испод њеног највећег дозвољеног предстепеног притиска.
4、Пумпа за држање
Холдинг пумпа је пумпа која не може ефикасно да користи главну предстепену пумпу када је пумпање вакуумског система веома мало.Из тог разлога се у вакуум систему користи друга врста помоћне предстепене пумпе са мањом брзином пумпања за одржавање нормалног рада главне пумпе или за одржавање ниског притиска који је потребан за испражњени контејнер.
5 、 Груба вакуумска пумпа или нисковакумска пумпа
Груба или нисковакумска пумпа је вакуум пумпа која покреће из ваздуха и ради у опсегу ниског или грубог вакуумског притиска након смањења притиска пумпаног контејнера.
6、Пумпа високог вакума
Пумпа високог вакума се односи на вакуум пумпу која ради у високом вакуумском опсегу.
7、Ултра-висока вакуум пумпа
Пумпа ултра високог вакуума се односи на вакуум пумпу која ради у опсегу ултра високог вакуума.
8、Бустер пумпа
Боостер пумпа се обично односи на вакуум пумпу која ради између ниско-вакум пумпе и пумпе високог вакуума како би се повећао капацитет пумпања пумпног система у средњем опсегу притиска или смањио захтев за брзином пумпања претходне пумпе.
Увод у јонски чистач
Пласма Цлеанер
1. Плазма је јонизовани гас у коме су густине позитивних јона и електрона приближно једнаке.Састоји се од јона, електрона, слободних радикала и неутралних честица.
2. То је четврто стање материје.Пошто је плазма комбинација веће енергије од гаса, супстанца у окружењу плазме може добити више физичко-хемијских и других реакционих карактеристика.
3. Механизам машине за чишћење плазмом је да се ослања на „стање плазме“ материјала „ефекат активације“ за уклањање површинских мрља.
4. Чишћење плазмом је такође најдубљи тип чишћења од свих метода чишћења.Може се широко користити у полупроводницима, микроелектроници, ЦОГ, ЛЦД, ЛЦМ и ЛЕД процесима.
5. Прецизно чишћење пре паковања уређаја, вакуумске електронике, конектора и релеја, соларне фотонапонске индустрије, чишћења површине пластике, гуме, метала и керамике, третмана јеткањем, третмана пепелом, површинске активације и других области експеримената науке о животу.
Време поста: 07.11.2022