① Alus controllability na repeatability tina ketebalan pilem
Naha ketebalan pilem bisa dikawasa dina nilai predetermined disebut ketebalan pilem controllability.The ketebalan pilem diperlukeun bisa diulang sababaraha kali, nu disebut ketebalan pilem repeatability.Because arus ngurangan jeung ayeuna target of vakum sputtering palapis bisa dikawasa misah.Ku alatan éta, ketebalan pilem sputtered téh controllable, sarta pilem kalawan ketebalan predetermined bisa disimpen reliably.Salaku tambahan, palapis sputter tiasa kéngingkeun pilem kalayan ketebalan seragam dina permukaan anu ageung.
② adhesion kuat antara pilem jeung substrat
Énergi atom sputtered nyaéta 1-2 ordo gedena leuwih luhur batan atom ngejat.Konversi énergi atom sputtered énergi tinggi disimpen dina substrat leuwih luhur batan atom ngejat, nu ngahasilkeun panas leuwih luhur sarta ngaronjatkeun adhesion antara atom sputtered jeung substrat.Sajaba ti éta, sababaraha atom sputtered énergi tinggi ngahasilkeun tingkat suntik béda, ngabentuk lapisan pseudodiffusion dina substrat.Salaku tambahan, substrat sok dibersihkeun sareng diaktipkeun di daérah plasma salami prosés ngabentuk pilem, anu ngaleungitkeun atom sputtering kalayan adhesion lemah, sareng ngamurnikeun sareng ngaktifkeun permukaan substrat.Ku alatan éta, film sputtered boga adhesion kuat ka substrat.
③ pilem bahan anyar béda ti target bisa disiapkeun
Lamun gas réaktif diwanohkeun salila sputtering sangkan eta meta jeung udagan, film bahan anyar sagemblengna béda ti udagan bisa diala.Contona, silikon dipaké salaku udagan sputtering, sarta oksigén jeung argon disimpen kana chamber vakum babarengan.Saatos sputtering, pilem insulating SiOz tiasa didapet.Ngagunakeun titanium salaku udagan sputtering, nitrogén jeung argon nu nempatkeun kana chamber vakum babarengan, sarta fase TiN pilem siga emas tiasa didapet sanggeus sputtering.
④ purity High jeung kualitas alus pilem
Kusabab euweuh komponén crucible dina alat persiapan pilem sputtering, komponén bahan manaskeun crucible moal dicampurkeun dina lapisan pilem sputtering.Kalemahan sputtering coating nyaéta laju ngabentuk pilem langkung laun tibatan lapisan évaporasi, suhu substrat langkung luhur, gampang kapangaruhan ku gas najis, sareng struktur alat langkung kompleks.
Tulisan ieu dipedalkeun ku Guangdong Zhenhua, produsénparabot palapis vakum
waktos pos: Mar-09-2023