Lapisan ionmesin asalna tina téori anu diajukeun ku DM Mattox dina taun 1960-an, sareng percobaan anu saluyu dimimitian dina waktos éta;Nepi ka 1971, Chambers jeung nu lianna medalkeun téhnologi palapis ion beam éléktron;Téknologi réaktif évaporasi plating (ARE) ditunjukkeun dina laporan Bunshah di 1972, nalika jinis pilem super-hard sapertos TiC sareng TiN diproduksi;Ogé di 1972, Smith sareng Molley ngadopsi téknologi katoda kerung dina prosés palapis.Taun 1980-an, palapis ion di Cina tungtungna ngahontal tingkat aplikasi industri, sareng prosés palapis sapertos palapis ion multi-arc vakum sareng palapis ion arc-discharge parantos muncul sacara berturut-turut.
Sakabeh prosés kerja vakum ion plating nyaéta kieu: kahiji,ngompachamber vakum, lajengantosantekanan vakum ka 4X10 ⁻ ³ Paatawa hadé, perlu nyambungkeun catu daya tegangan luhur sarta ngawangun wewengkon plasma suhu low gas ngurangan tegangan low antara substrat jeung evaporator nu.Sambungkeun éléktroda substrat jeung 5000V DC tegangan luhur négatip pikeun ngabentuk ngurangan glow tina katoda.Ion gas inert dihasilkeun deukeut wewengkon glow négatip.Aranjeunna asup ka wewengkon poék katoda sarta gancangan ku médan listrik sarta bombard beungeut substrat.Ieu mangrupikeun prosés beberesih, teras lebetkeun prosés palapis.Ngaliwatan pangaruh pemanasan bombardment, sababaraha bahan plating nguap.Wewengkon plasma asup kana proton, tabrakan jeung éléktron jeung ion gas inert, sarta sabagian leutik di antarana anu ionized, Ieu ionized kalawan énergi tinggi bakal bombard beungeut pilem sarta ngaronjatkeun kualitas pilem ka extent sababaraha.
Prinsip plating ion vakum nyaéta: dina chamber vakum, ngagunakeun fenomena ngurangan gas atawa bagian ionized tina bahan ngejat, dina bombardment tina ion bahan nguap atawa ion gas, sakaligus neundeun zat ngejat ieu atawa réaktan maranéhanana dina substrat. pikeun meunangkeun pilem ipis.Lapisan ionmesinngagabungkeun évaporasi vakum, téhnologi plasma jeung gas glow ngurangan, nu teu ukur ngaronjatkeun kualitas pilem, tapi ogé expands rentang aplikasi pilem.Kaunggulan tina prosés ieu téh difraksi kuat, adhesion pilem alus, sarta sagala rupa bahan palapis.Prinsip plating ion munggaran diajukeun ku DM Mattox.Aya seueur jinis palapis ion.Jenis anu paling umum nyaéta pemanasan évaporasi, kalebet pemanasan résistansi, pemanasan sinar éléktron, pemanasan sinar éléktron plasma, pemanasan induksi frekuensi tinggi sareng metode pemanasan anu sanés.
waktos pos: Feb-14-2023