Mtiririko wa Mashine ya Kupaka Mipako

1. Substrate ya kusafisha bombardment

1.1) Mashine ya kunyunyizia kupaka tumia maji ya kung'aa kusafisha sehemu ndogo.Hiyo ni kusema, malipo ya gesi ya argon ndani ya chumba, voltage ya kutokwa ni karibu 1000V, Baada ya kuwasha usambazaji wa umeme, kutokwa kwa mwanga huzalishwa, na substrate husafishwa na bombardment ya ion ya argon.

1.2) Katika mashine za mipako ya sputtering ambayo viwanda huzalisha mapambo ya juu, ioni za titani zinazotolewa na vyanzo vidogo vya arc hutumiwa zaidi kusafisha.Mashine ya mipako ya sputtering ina chanzo kidogo cha arc, na mkondo wa ioni wa titani katika plasma ya arc inayotokana na kutokwa kwa chanzo kidogo cha arc hutumiwa kupiga bombard na kusafisha substrate.

2. Mipako ya nitridi ya Titanium

Wakati wa kuweka filamu nyembamba za nitridi ya titani, nyenzo inayolengwa ya kunyunyiza ni shabaha ya titani.Nyenzo inayolengwa imeunganishwa na electrode hasi ya usambazaji wa umeme wa sputtering, na voltage inayolengwa ni 400 ~ 500V;Mzunguko wa argon umewekwa, na utupu wa udhibiti ni (3 ~ 8) x10^-1PA.Substrate imeunganishwa na electrode hasi ya usambazaji wa umeme wa upendeleo, na voltage ya 100 ~ 200V.

Baada ya kuwasha ugavi wa umeme wa shabaha ya titani inayonyunyiza, utokaji mwepesi hutokezwa, na agoni za argon zenye nishati nyingi hushambulia shabaha ya kunyunyiza, zikitoa atomi za titani kutoka kwenye lengo.

Nitrojeni ya mmenyuko wa gesi huletwa, na atomi za titani na nitrojeni hutiwa ionized katika ioni za titani na ioni za nitrojeni kwenye chumba cha mipako.Chini ya mvuto wa upendeleo hasi uwanja wa umeme unaotumika kwa substrate, ioni za titan na ioni za nitrojeni huharakisha uso wa substrate kwa mmenyuko wa kemikali na utuaji kuunda safu ya filamu ya nitridi ya titani.

3. Toa substrate

Baada ya kufikia unene wa filamu ulioamuliwa mapema, zima usambazaji wa umeme wa kunyunyiza, usambazaji wa nishati ya upendeleo wa substrate, na chanzo cha hewa.Baada ya joto la substrate kuwa chini ya 120 ℃, jaza chumba cha mipako na hewa na kuchukua substrate.

Makala hii imechapishwa namtengenezaji wa mashine ya mipako ya magnetron- Guangdong Zhenhua.