Vipengele vya kiufundi vya vifaa vya mipako ya magnetron ya utupu

Kunyunyiza kwa magnetron ya utupu kunafaa hasa kwa mipako tendaji ya utuaji.Kwa kweli, mchakato huu unaweza kuweka filamu nyembamba za oksidi yoyote, carbudi, na vifaa vya nitridi.Kwa kuongeza, mchakato huo pia unafaa hasa kwa uwekaji wa miundo ya filamu ya multilayer, ikiwa ni pamoja na miundo ya macho, filamu za rangi, mipako inayostahimili kuvaa, nano-laminates, mipako ya superlattice, filamu za kuhami, nk. Mapema 1970, filamu ya macho ya ubora wa juu. mifano ya utuaji imetengenezwa kwa nyenzo mbalimbali za safu ya filamu ya macho.Nyenzo hizi ni pamoja na nyenzo za upitishaji uwazi, halvledare, polima, oksidi, karbidi na nitridi, wakati floridi hutumika katika michakato kama vile mipako ya kuyeyuka.

Faida kuu ya mchakato wa magnetron sputtering ni kutumia michakato ya mipako tendaji au isiyo ya tendaji kuweka tabaka za nyenzo hizi na udhibiti mzuri wa muundo wa safu, unene wa filamu, usawa wa unene wa filamu na sifa za mitambo za safu.Mchakato una sifa zifuatazo.

1, Kiwango kikubwa cha uwekaji.Kwa sababu ya utumiaji wa elektroni za kasi ya juu, mtiririko mkubwa wa ioni unaweza kupatikana, kwa ufanisi kuboresha kiwango cha uwekaji na kiwango cha sputtering cha mchakato huu wa mipako.Ikilinganishwa na michakato mingine ya mipako ya sputtering, magnetron sputtering ina uwezo wa juu na mavuno mengi, na hutumiwa sana katika uzalishaji wa viwanda mbalimbali.

2, Ufanisi wa juu wa nguvu.Magnetron sputtering lengo kwa ujumla kuchagua voltage ndani ya mbalimbali ya 200V-1000V, kwa kawaida ni 600V, kwa sababu voltage ya 600V ni tu ndani ya masafa bora zaidi ya ufanisi wa nishati.

3. Nishati ya chini ya sputtering.Voltage inayolengwa ya magnetron inatumika chini, na uwanja wa sumaku hufunga plasma karibu na cathode, ambayo huzuia chembe za juu zinazochajiwa na nishati kutoka kwa kuzindua kwenye substrate.

4, joto la chini la substrate.anodi inaweza kutumika kuongoza mbali elektroni yanayotokana wakati wa kutokwa, hakuna haja ya msaada substrate kukamilisha, ambayo inaweza ufanisi kupunguza bombardment elektroni ya substrate.Hivyo joto la substrate ni la chini, ambalo ni bora sana kwa substrates za plastiki ambazo hazihimili sana mipako ya joto la juu.

5, Magnetron sputtering lengo uso etching si sare.Magnetron sputtering lengo uso etching kutofautiana husababishwa na kutofautiana magnetic shamba ya lengo.Mahali pa kiwango cha uwekaji lengwa ni kikubwa zaidi, ili kiwango cha matumizi bora cha lengo kiwe cha chini (asilimia 20-30 pekee ya utumiaji).Kwa hiyo, ili kuboresha utumiaji unaolengwa, usambazaji wa uga wa sumaku unahitaji kubadilishwa kwa njia fulani, au utumiaji wa sumaku zinazosonga kwenye kathodi pia unaweza kuboresha utumiaji lengwa.

6, Lengo la Mchanganyiko.Inaweza kufanya Composite lengo mipako alloy filamu.Kwa sasa, utumiaji wa mchakato wa kunyunyiza unaolengwa wa sumaku umeunganishwa kwa ufanisi kwenye aloi ya Ta-Ti, (Tb-Dy)-Fe na filamu ya aloi ya Gb-Co.Muundo wa shabaha wa mchanganyiko una aina nne, mtawalia, ni shabaha iliyoandikwa kwa duara, shabaha ya mraba iliyochombwa, shabaha ya miraba midogo iliyochongwa na shabaha ya kisekta.Matumizi ya muundo wa lengo la sekta ni bora zaidi.

7. Wide wa maombi.Mchakato wa kunyunyiza wa Magnetron unaweza kuweka vitu vingi, vya kawaida ni: Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti. , Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO, n.k.

Kunyunyiza kwa Magnetron ni moja wapo ya michakato inayotumika sana ya mipako kupata filamu za hali ya juu.Na cathode mpya, ina matumizi ya shabaha ya juu na kiwango cha juu cha uwekaji.Guangdong Zhenhua Teknolojia utupu magnetron sputtering mipako mchakato sasa sana kutumika katika mipako ya substrates eneo kubwa.Mchakato huo hautumiwi tu kwa uwekaji wa filamu ya safu moja, lakini pia kwa mipako ya safu nyingi za filamu, kwa kuongeza, pia hutumiwa katika mchakato wa roll roll kwa filamu ya ufungaji, filamu ya macho, lamination na mipako mingine ya filamu.