హాట్ వైర్ ఆర్క్ మెరుగుపరచబడిన ప్లాస్మా రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ సాంకేతికత ఆర్క్ ప్లాస్మాను విడుదల చేయడానికి హాట్ వైర్ ఆర్క్ గన్‌ని ఉపయోగిస్తుంది, దీనిని హాట్ వైర్ ఆర్క్ PECVD సాంకేతికతగా సంక్షిప్తీకరించారు.ఈ సాంకేతికత హాట్ వైర్ ఆర్క్ గన్ అయాన్ కోటింగ్ టెక్నాలజీని పోలి ఉంటుంది, అయితే తేడా ఏమిటంటే, హాట్ వైర్ ఆర్క్ గన్ అయాన్ కోటింగ్ ద్వారా పొందిన ఘన చిత్రం వేడి వైర్ ఆర్క్ గన్ ద్వారా విడుదలయ్యే ఆర్క్ లైట్ ఎలక్ట్రాన్ ప్రవాహాన్ని లోహాన్ని వేడి చేయడానికి మరియు ఆవిరి చేయడానికి ఉపయోగిస్తుంది. క్రూసిబుల్, అయితే హాట్ వైర్ ఆర్క్ లైట్ PECVD డైమండ్ ఫిల్మ్‌లను డిపాజిట్ చేయడానికి ఉపయోగించే CH4 మరియు H2 వంటి ప్రతిచర్య వాయువులతో అందించబడుతుంది.హాట్ వైర్ ఆర్క్ గన్ ద్వారా విడుదలయ్యే అధిక-సాంద్రత కలిగిన ఆర్క్ డిశ్చార్జ్ కరెంట్‌పై ఆధారపడటం ద్వారా, రియాక్టివ్ గ్యాస్ అయాన్లు గ్యాస్ అయాన్లు, అణు అయాన్లు, యాక్టివ్ గ్రూపులు మొదలైన వాటితో సహా వివిధ క్రియాశీల కణాలను పొందేందుకు ఉత్తేజితమవుతాయి.
హాట్ వైర్ ఆర్క్ PECVD పరికరంలో, రెండు విద్యుదయస్కాంత కాయిల్స్ ఇప్పటికీ పూత గది వెలుపల అమర్చబడి ఉంటాయి, దీని వలన అధిక సాంద్రత కలిగిన ఎలక్ట్రాన్ ప్రవాహాన్ని యానోడ్ వైపు కదిలే సమయంలో తిరుగుతుంది, ఎలక్ట్రాన్ ప్రవాహం మరియు ప్రతిచర్య వాయువు మధ్య ఘర్షణ మరియు అయనీకరణ సంభావ్యతను పెంచుతుంది. .విద్యుదయస్కాంత కాయిల్ మొత్తం నిక్షేపణ గది యొక్క ప్లాస్మా సాంద్రతను పెంచడానికి ఆర్క్ కాలమ్‌గా కూడా కలుస్తుంది.ఆర్క్ ప్లాస్మాలో, ఈ క్రియాశీలక కణాల సాంద్రత ఎక్కువగా ఉంటుంది, ఇది వజ్రాల చిత్రాలను మరియు ఇతర ఫిల్మ్ లేయర్‌లను వర్క్‌పీస్‌పై జమ చేయడం సులభం చేస్తుంది.
——ఈ కథనాన్ని గ్వాంగ్‌డాంగ్ జెన్‌హువా టెక్నాలజీ విడుదల చేసింది, aఆప్టికల్ పూత యంత్రాల తయారీదారు.
పోస్ట్ సమయం: మే-05-2023