రెసిస్టెన్స్ బాష్పీభవన మూల పూత అనేది ప్రాథమిక వాక్యూమ్ బాష్పీభవన పూత పద్ధతి."బాష్పీభవనం" అనేది ఒక సన్నని చలనచిత్ర తయారీ పద్ధతిని సూచిస్తుంది, దీనిలో వాక్యూమ్ చాంబర్‌లోని పూత పదార్థం వేడి చేయబడి మరియు ఆవిరైపోతుంది, తద్వారా పదార్థ అణువులు లేదా అణువులు ఆవిరి మరియు ఉపరితలం నుండి తప్పించుకుంటాయి, ఆవిరి ప్రవాహ దృగ్విషయాన్ని ఏర్పరుస్తాయి. సబ్‌స్ట్రేట్ లేదా సబ్‌స్ట్రేట్, మరియు చివరకు ఘనమైన ఫిల్మ్‌ను ఏర్పరుస్తుంది.
రెసిస్టెన్స్ బాష్పీభవన మూల పూత పద్ధతి అని పిలవబడేది టాంటాలమ్, మాలిబ్డినం, టంగ్‌స్టన్ మరియు ఇతర అధిక ద్రవీభవన స్థానం లోహాలను ఉపయోగించి బాష్పీభవన మూలం యొక్క తగిన ఆకృతిని తయారు చేయడం, ఆవిరైపోయే పదార్థాలతో లోడ్ చేయబడి, గాలిని నేరుగా వేడి చేయడం మరియు ఆవిరైన పదార్ధాలను ఆవిరి చేయండి లేదా పరోక్ష వేడి మరియు బాష్పీభవనం కోసం అల్యూమినా, బెరీలియం ఆక్సైడ్ మరియు ఇతర క్రూసిబుల్స్‌లో ఆవిరైన పదార్థాలను ఉంచండి.ఇది రెసిస్టెన్స్ హీటింగ్ బాష్పీభవన పద్ధతి.
దివాక్యూమ్ బాష్పీభవన పూత యంత్రంరెసిస్టెన్స్ హీటర్ ద్వారా వేడి చేయబడిన మరియు ఆవిరైన సాధారణ నిర్మాణం, తక్కువ ధర మరియు నమ్మదగిన ఉపయోగం యొక్క ప్రయోజనాలు ఉన్నాయి.ఇది తక్కువ ద్రవీభవన స్థానంతో పదార్థాల బాష్పీభవన పూత కోసం ఉపయోగించవచ్చు, ప్రత్యేకించి పూత నాణ్యత కోసం తక్కువ అవసరాలతో భారీ ఉత్పత్తికి.ఇప్పటివరకు, అల్యూమినైజ్డ్ అద్దాల ఉత్పత్తిలో ఉపయోగంలో ఉంచబడిన ప్రతిఘటన తాపన మరియు బాష్పీభవనం యొక్క పెద్ద సంఖ్యలో పూత ప్రక్రియలు ఇప్పటికీ ఉన్నాయి.
ప్రతిఘటన బాష్పీభవన మూలం బాష్పీభవన పూత పద్ధతి యొక్క ప్రతికూలతలు వేడి చేయడం ద్వారా చేరుకోగల గరిష్ట ఉష్ణోగ్రత పరిమితంగా ఉంటుంది మరియు హీటర్ యొక్క సేవ జీవితం కూడా తక్కువగా ఉంటుంది.ఇటీవలి సంవత్సరాలలో, ప్రతిఘటన బాష్పీభవన మూలం యొక్క జీవితాన్ని మెరుగుపరచడానికి, పరికరాల కర్మాగారం బోరాన్ నైట్రైడ్ ద్వారా సంశ్లేషణ చేయబడిన వాహక సిరామిక్ పదార్థాన్ని బాష్పీభవన మూలంగా స్వీకరించింది.జపనీస్ పేటెంట్ నివేదిక ప్రకారం, ఇది 20%~30% బోరాన్ నైట్రైడ్ మరియు వక్రీభవన పదార్థాలతో కూడిన పదార్థాలను ఉపయోగించవచ్చు, వాటిని బాష్పీభవన మూలాన్ని (క్రూసిబుల్) చేయడానికి మరియు దాని ఉపరితలంపై 62% జిర్కోనియం పొరతో పూయవచ్చు. ~82%, మరియు మిగిలినవి జిర్కోనియం-సిలికాన్ మిశ్రమం పదార్థాలు.
పోస్ట్ సమయం: ఏప్రిల్-22-2023