అయాన్ పూత సాంకేతికత

ఫిల్మ్‌లను డిపాజిట్ చేయడానికి వాక్యూమ్ బాష్పీభవన పద్ధతి యొక్క ప్రధాన లక్షణం అధిక నిక్షేపణ రేటు.స్పుట్టరింగ్ పద్ధతి యొక్క ప్రధాన లక్షణం అందుబాటులో ఉన్న ఫిల్మ్ మెటీరియల్స్ యొక్క విస్తృత శ్రేణి మరియు ఫిల్మ్ లేయర్ యొక్క మంచి ఏకరూపత, కానీ నిక్షేపణ రేటు తక్కువగా ఉంటుంది.అయాన్ పూత అనేది ఈ రెండు ప్రక్రియలను మిళితం చేసే పద్ధతి.

అయాన్ పూత సూత్రం మరియు చలనచిత్ర నిర్మాణ పరిస్థితులు
అయాన్ పూత యొక్క పని సూత్రం చిత్రంలో చూపబడింది.వాక్యూమ్ చాంబర్ 10-4 Pa కంటే తక్కువ ఒత్తిడికి పంప్ చేయబడుతుంది, ఆపై జడ వాయువుతో (ఉదా ఆర్గాన్) 0.1~1 Pa పీడనానికి నింపబడుతుంది. 5 kV వరకు ప్రతికూల DC వోల్టేజ్ సబ్‌స్ట్రేట్‌కి వర్తించబడిన తర్వాత, a తక్కువ పీడన గ్యాస్ గ్లో డిశ్చార్జ్ ప్లాస్మా జోన్ సబ్‌స్ట్రేట్ మరియు క్రూసిబుల్ మధ్య స్థాపించబడింది.జడ వాయువు అయాన్లు విద్యుత్ క్షేత్రం ద్వారా వేగవంతం చేయబడతాయి మరియు ఉపరితలం యొక్క ఉపరితలంపై బాంబు దాడి చేస్తాయి, తద్వారా వర్క్‌పీస్ యొక్క ఉపరితలం శుభ్రం చేయబడుతుంది.ఈ శుభ్రపరిచే ప్రక్రియ పూర్తయిన తర్వాత, పూత ప్రక్రియ క్రూసిబుల్‌లో పూయబడే పదార్థం యొక్క ఆవిరితో ప్రారంభమవుతుంది.బాష్పీభవన ఆవిరి కణాలు ప్లాస్మా జోన్‌లోకి ప్రవేశించి, విడదీయబడిన జడ సానుకూల అయాన్లు మరియు ఎలక్ట్రాన్‌లతో ఢీకొంటాయి మరియు కొన్ని ఆవిరి కణాలు విడదీయబడతాయి మరియు విద్యుత్ క్షేత్రం యొక్క త్వరణం కింద వర్క్‌పీస్ మరియు పూత ఉపరితలంపై బాంబు దాడి చేస్తాయి.అయాన్ ప్లేటింగ్ ప్రక్రియలో, నిక్షేపణ మాత్రమే కాకుండా, సబ్‌స్ట్రేట్‌పై సానుకూల అయాన్‌ల చిమ్మట కూడా ఉంటుంది, కాబట్టి నిక్షేపణ ప్రభావం స్పుట్టరింగ్ ప్రభావం కంటే ఎక్కువగా ఉన్నప్పుడు మాత్రమే సన్నని చలనచిత్రం ఏర్పడుతుంది.

అయాన్ పూత ప్రక్రియ, దీనిలో సబ్‌స్ట్రేట్ ఎల్లప్పుడూ అధిక-శక్తి అయాన్‌లతో పేలవచ్చు, చాలా శుభ్రంగా ఉంటుంది మరియు స్పుట్టరింగ్ మరియు బాష్పీభవన పూతతో పోలిస్తే అనేక ప్రయోజనాలను కలిగి ఉంటుంది.

(1) బలమైన సంశ్లేషణ, పూత పొర సులభంగా పీల్ చేయదు.
(ఎ) అయాన్ పూత ప్రక్రియలో, గ్లో డిశ్చార్జ్ ద్వారా ఉత్పన్నమయ్యే అధిక-శక్తి కణాలు ఉపరితల ఉపరితలంపై కాథోడిక్ స్పుట్టరింగ్ ప్రభావాన్ని ఉత్పత్తి చేయడానికి ఉపయోగించబడతాయి, ఉపరితలంపై శోషించబడిన గ్యాస్ మరియు చమురును చిమ్మడం మరియు శుభ్రపరచడం. మొత్తం పూత ప్రక్రియ పూర్తయ్యే వరకు ఉపరితల ఉపరితలాన్ని శుద్ధి చేయడానికి సబ్‌స్ట్రేట్.
(బి) పూత యొక్క ప్రారంభ దశలో, స్పుట్టరింగ్ మరియు నిక్షేపణ సహజీవనం, ఇది ఫిల్మ్ బేస్ యొక్క ఇంటర్‌ఫేస్‌లో భాగాల పరివర్తన పొరను లేదా ఫిల్మ్ మెటీరియల్ మరియు బేస్ మెటీరియల్ మిశ్రమంగా ఏర్పడుతుంది, దీనిని “సూడో-డిఫ్యూజన్ లేయర్” అని పిలుస్తారు, ఇది చలనచిత్రం యొక్క సంశ్లేషణ పనితీరును సమర్థవంతంగా మెరుగుపరుస్తుంది.
(2) మంచి ర్యాప్-అరౌండ్ లక్షణాలు.ఒక కారణం ఏమిటంటే, పూత పదార్థ పరమాణువులు అధిక పీడనం కింద అయనీకరణం చెందుతాయి మరియు ఉపరితలం చేరుకునే ప్రక్రియలో అనేక సార్లు గ్యాస్ అణువులతో ఢీకొంటాయి, తద్వారా పూత పదార్థం అయాన్లు ఉపరితలం చుట్టూ చెల్లాచెదురుగా ఉంటాయి.అదనంగా, అయనీకరణం చేయబడిన పూత పదార్థం అణువులు విద్యుత్ క్షేత్రం యొక్క చర్యలో ఉపరితలం యొక్క ఉపరితలంపై జమ చేయబడతాయి, కాబట్టి మొత్తం ఉపరితలం ఒక సన్నని చలనచిత్రంతో జమ చేయబడుతుంది, అయితే బాష్పీభవన పూత ఈ ప్రభావాన్ని సాధించదు.
(3) పూత యొక్క అధిక నాణ్యత సానుకూల అయాన్లతో డిపాజిటెడ్ ఫిల్మ్‌పై స్థిరంగా బాంబులు వేయడం వల్ల కండెన్సేట్‌ల చిమ్మడం వల్ల ఏర్పడుతుంది, ఇది పూత పొర యొక్క సాంద్రతను మెరుగుపరుస్తుంది.
(4) పూత పదార్థాలు మరియు ఉపరితలాల యొక్క విస్తృత ఎంపిక లోహ లేదా నాన్-మెటాలిక్ పదార్థాలపై పూయవచ్చు.
(5) రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD)తో పోలిస్తే, ఇది తక్కువ ఉపరితల ఉష్ణోగ్రతను కలిగి ఉంటుంది, సాధారణంగా 500 ° C కంటే తక్కువగా ఉంటుంది, అయితే దాని సంశ్లేషణ బలం పూర్తిగా రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ చిత్రాలతో పోల్చబడుతుంది.
(6)అధిక నిక్షేపణ రేటు, వేగవంతమైన ఫిల్మ్ ఫార్మేషన్ మరియు పదుల నానోమీటర్ల నుండి మైక్రాన్‌ల వరకు ఫిల్మ్‌ల కోటింగ్ మందం.

అయాన్ పూత యొక్క ప్రతికూలతలు: చిత్రం యొక్క మందం ఖచ్చితంగా నియంత్రించబడదు;జరిమానా పూత అవసరమైనప్పుడు లోపాల ఏకాగ్రత ఎక్కువగా ఉంటుంది;మరియు పూత సమయంలో వాయువులు ఉపరితలంలోకి ప్రవేశిస్తాయి, ఇది ఉపరితల లక్షణాలను మారుస్తుంది.కొన్ని సందర్భాల్లో, కావిటీస్ మరియు న్యూక్లియైలు (1 nm కంటే తక్కువ) కూడా ఏర్పడతాయి.

నిక్షేపణ రేటు కొరకు, అయాన్ పూత బాష్పీభవన పద్ధతితో పోల్చవచ్చు.ఫిల్మ్ క్వాలిటీ విషయానికొస్తే, అయాన్ కోటింగ్ ద్వారా ఉత్పత్తి చేయబడిన ఫిల్మ్‌లు స్పుట్టరింగ్ ద్వారా తయారు చేయబడిన వాటి కంటే దగ్గరగా ఉంటాయి లేదా మెరుగ్గా ఉంటాయి.