หลักการสปัตเตอร์ของแมกนีตรอน: อิเล็กตรอนชนกับอะตอมของอาร์กอนในกระบวนการเร่งความเร็วไปยังพื้นผิวภายใต้การกระทำของสนามไฟฟ้า ทำให้ไอออนและอิเล็กตรอนของอาร์กอนแตกตัวเป็นไอออนจำนวนมาก และอิเล็กตรอนจะบินไปยังพื้นผิวอาร์กอนไอออนจะเร่งความเร็วเพื่อระดมยิงวัสดุเป้าหมายภายใต้การกระทำของสนามไฟฟ้า ทำให้อะตอมเป้าหมายจำนวนมากกระเด็นออกมา ซึ่งสะสมอยู่บนซับสเตรตในรูปของอะตอมเป้าหมายที่เป็นกลาง (หรือโมเลกุล) เพื่อสร้างฟิล์มเมื่ออิเล็กตรอนทุติยภูมิเร่งความเร็วเพื่อบินไปยังสารตั้งต้น ภายใต้อิทธิพลของแรงลอเรนซ์ของสนามแม่เหล็ก อิเลคตรอนจะแสดงรูปแบบประกอบเป็นเกลียวและไซโคลลอยด์เพื่อสร้างการเคลื่อนที่เป็นวงกลมบนพื้นผิวเป้าหมายอิเล็กตรอนไม่เพียงแต่มีเส้นทางการเคลื่อนที่ที่ยาวเท่านั้น แต่ยังอยู่ในบริเวณพลาสมาใกล้กับพื้นผิวเป้าหมายด้วยลำแสงทฤษฎีสนามแม่เหล็กไฟฟ้า ซึ่ง Ar จำนวนมากจะถูกทำให้แตกตัวเป็นไอออนเพื่อโจมตีเป้าหมาย ดังนั้นอัตราการสะสมของแมกนีตรอน อุปกรณ์เคลือบสปัตเตอร์สูง
ดังนั้น กอุปกรณ์เคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอร์ได้รับการพัฒนาซึ่งผสานรวมแมกนีตรอนสปัตเตอร์และเทคโนโลยีการเคลือบด้วยไอออน และมอบโซลูชันสำหรับการปรับปรุงความสม่ำเสมอของสี และ https://www.zhenhuavac.com/wp-admin/post.php?post=5107&action=edit&message=1# ความเสถียรของอัตราการสะสมตัวและองค์ประกอบของสารประกอบตามความต้องการของผลิตภัณฑ์ที่แตกต่างกัน สามารถเลือกระบบทำความร้อน ระบบอคติ ระบบไอออไนเซชัน และอุปกรณ์อื่นๆการกระจายเป้าหมายสามารถปรับได้อย่างยืดหยุ่นและความสม่ำเสมอของฟิล์มนั้นเหนือกว่าด้วยวัสดุเป้าหมายที่แตกต่างกัน จึงสามารถเตรียมฟิล์มคอมโพสิตที่มีประสิทธิภาพดีกว่าได้การเคลือบที่เตรียมโดยอุปกรณ์มีข้อได้เปรียบของแรงประกอบที่แข็งแกร่งและความกะทัดรัด ซึ่งสามารถปรับปรุงความต้านทานการพ่นละอองเกลือ ความต้านทานการสึกหรอ และความแข็งผิวของผลิตภัณฑ์ได้อย่างมีประสิทธิภาพ และเป็นไปตามข้อกำหนดของการเตรียมการเคลือบที่มีประสิทธิภาพสูง
อุปกรณ์นี้มีวัสดุที่ใช้งานได้มากมาย ซึ่งสามารถใช้ได้กับฮาร์ดแวร์ชุบน้ำสแตนเลส/ชิ้นส่วนพลาสติก แก้ว เซรามิก และวัสดุอื่นๆส่วนใหญ่จะใช้สำหรับฮาร์ดแวร์ของผลิตภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์ นาฬิกาและนาฬิการะดับไฮเอนด์ เครื่องประดับและฮาร์ดแวร์ระดับไฮเอนด์ของเครื่องหนังยี่ห้อต่างๆ และผลิตภัณฑ์อื่นๆ อีกมากมาย
เวลาโพสต์: ก.พ.-07-2566