เทคโนโลยีการเคลือบไอออนแบบคาโธดิกอาร์คใช้เทคโนโลยีการปล่อยอาร์คฟิลด์เย็นการประยุกต์ใช้เทคโนโลยีการปล่อยอาร์คด้วยความเย็นในฟิลด์การเคลือบเกิดขึ้นเร็วที่สุดโดย Multi Arc Company ในสหรัฐอเมริกาชื่อภาษาอังกฤษของขั้นตอนนี้คือ arc ionplating (AIP)
เทคโนโลยีการเคลือบแคโทดอาร์คไอออนเป็นเทคโนโลยีที่มีอัตราการเกิดไอออนของโลหะสูงที่สุดในบรรดาเทคโนโลยีการเคลือบไอออนต่างๆอัตราการแตกตัวเป็นไอออนของอนุภาคฟิล์มสูงถึง 60%~90% และอนุภาคฟิล์มส่วนใหญ่มาถึงพื้นผิวของชิ้นงานในรูปของไอออนพลังงานสูง ซึ่งมีพลังงานสูงและง่ายต่อการทำปฏิกิริยาเพื่อให้ได้ชั้นฟิล์มแข็ง เช่น เป็นดีบุกการลดอุณหภูมิของการสะสมของ TiN ให้ต่ำกว่า 500 ℃ยังมีข้อได้เปรียบของอัตราการสะสมที่สูง ตำแหน่งการติดตั้งที่หลากหลายของแหล่งกำเนิดอาร์คแคโทด การใช้พื้นที่ห้องเคลือบสูง และความสามารถในการสะสมชิ้นส่วนขนาดใหญ่ปัจจุบันเทคโนโลยีนี้ได้กลายเป็นเทคโนโลยีหลักในการเคลือบชั้นฟิล์มแข็ง สารเคลือบกันความร้อน และชั้นฟิล์มตกแต่งบนแม่พิมพ์และชิ้นส่วนอุปกรณ์ที่สำคัญ
ด้วยการพัฒนาของอุตสาหกรรมการป้องกันประเทศและอุตสาหกรรมการผลิตระดับไฮเอนด์ ความต้องการการเคลือบแข็งบนเครื่องมือและแม่พิมพ์จึงสูงขึ้นเรื่อยๆก่อนหน้านี้ ชิ้นส่วนส่วนใหญ่ที่ผ่านกระบวนการตัดเป็นเหล็กกล้าคาร์บอนธรรมดาที่มีความแข็งต่ำกว่า 30HRCขณะนี้ วัสดุที่กำลังดำเนินการ ได้แก่ วัสดุที่ตัดเฉือนได้ยาก เช่น เหล็กกล้าไร้สนิม โลหะผสมอะลูมิเนียม และโลหะผสมไททาเนียม รวมถึงวัสดุที่มีความแข็งสูงที่มีความแข็งสูงถึง 60HRCทุกวันนี้ การใช้เครื่องจักร CNC สำหรับการตัดเฉือนนั้นต้องการความเร็วสูง อายุการใช้งานยาวนาน และการตัดแบบไม่ต้องหล่อลื่น ซึ่งทำให้เกิดความต้องการที่สูงขึ้นสำหรับประสิทธิภาพของการเคลือบแข็งบนเครื่องมือตัดใบพัดกังหันก๊าซของเครื่องบิน ใบมีดของคอมเพรสเซอร์ สกรูอัดรีด แหวนลูกสูบของเครื่องยนต์รถยนต์ เครื่องจักรทำเหมือง และชิ้นส่วนอื่น ๆ ได้นำเสนอข้อกำหนดใหม่สำหรับประสิทธิภาพของฟิล์มข้อกำหนดใหม่ได้ส่งเสริมการพัฒนาเทคโนโลยีการชุบด้วยไอออนแบบ cathodic arc ทำให้เกิดผลิตภัณฑ์ที่หลากหลายพร้อมประสิทธิภาพที่ยอดเยี่ยม
—— บทความนี้เผยแพร่โดย Guangdong Zhenhua Technology, aผู้ผลิตเครื่องเคลือบผิวด้วยแสง.
เวลาโพสต์: เมษายน-22-2023