ยินดีต้อนรับสู่ Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
ข่าวอุตสาหกรรม
-
กระบวนการเคลือบแคโทดไอออนแบบกลวง
ขั้นตอนการเคลือบแคโทดไอออนแบบกลวงมีดังต่อไปนี้: 1、ใส่แท่งชินในการยุบตัว2、การติดชิ้นงาน3、หลังจากอพยพไปที่ 5×10-3Pa แล้ว ก๊าซอาร์กอนจะถูกนำเข้าไปในห้องเคลือบจากท่อสีเงิน และระดับสุญญากาศอยู่ที่ประมาณ 100Pa4、เปิดไฟไบอัส5...อ่านเพิ่มเติม -
ตลาดอุปกรณ์เคลือบผิวออปติคัลที่ร่ำรวย: แสดงให้เห็นถึงศักยภาพในการขายมหาศาล
อุตสาหกรรมการเคลือบออปติคัลมีการเติบโตอย่างมากในช่วงหลายปีที่ผ่านมา เนื่องจากความก้าวหน้าทางเทคโนโลยี ความต้องการออปติกประสิทธิภาพสูงที่เพิ่มขึ้น และการพัฒนาอุตสาหกรรมอย่างรวดเร็วดังนั้น ตลาดอุปกรณ์เคลือบแสงทั่วโลกจึงกำลังเฟื่องฟู สร้างโอกาสมหาศาลให้กับบริษัทใน...อ่านเพิ่มเติม -
การวิเคราะห์ข้อดีและข้อเสียของการระเหยของลำอิเล็กตรอน
แนะนำ: ในด้านเทคโนโลยีการเคลือบฟิล์มบาง การระเหยของลำแสงอิเล็กตรอนเป็นวิธีการสำคัญที่ใช้ในอุตสาหกรรมต่างๆ เพื่อผลิตฟิล์มบางคุณภาพสูงคุณสมบัติที่เป็นเอกลักษณ์และความแม่นยำที่ไม่มีใครเทียบได้ทำให้เป็นตัวเลือกที่น่าสนใจสำหรับนักวิจัยและผู้ผลิตอย่างไรก็ตาม เช่น...อ่านเพิ่มเติม -
ลำแสงไอออนช่วยทับถมและแหล่งไอออนพลังงานต่ำ
1. การทับถมด้วยลำแสงไอออนส่วนใหญ่ใช้ลำแสงไอออนพลังงานต่ำเพื่อช่วยในการปรับเปลี่ยนพื้นผิวของวัสดุ(1) ลักษณะเฉพาะของการสะสมตัวของไอออนช่วยในระหว่างกระบวนการเคลือบผิว อนุภาคของฟิล์มที่สะสมจะถูกทิ้งระเบิดอย่างต่อเนื่องโดยไอออนที่มีประจุจากแหล่งกำเนิดไอออนบนพื้นผิวของ...อ่านเพิ่มเติม -
สีของฟิล์มตกแต่ง
ตัวฟิล์มเองจะเลือกสะท้อนหรือดูดซับแสงที่ตกกระทบ และสีของมันเป็นผลมาจากคุณสมบัติทางแสงของฟิล์มสีของฟิล์มบางเกิดจากแสงสะท้อน ดังนั้นต้องพิจารณาสองด้าน ได้แก่ สีที่แท้จริงซึ่งเกิดจากลักษณะการดูดกลืนแสง ...อ่านเพิ่มเติม -
บทนำของหลักการ PVD
บทนำ: ในโลกของวิศวกรรมพื้นผิวขั้นสูง การตกตะกอนด้วยไอทางกายภาพ (PVD) กลายเป็นวิธีการไปสู่การเพิ่มประสิทธิภาพและความทนทานของวัสดุต่างๆคุณเคยสงสัยไหมว่าเทคนิคล้ำสมัยนี้ทำงานอย่างไร?วันนี้เรามาเจาะลึกกลไกอันซับซ้อนของ P...อ่านเพิ่มเติม -
เทคโนโลยีการเคลือบด้วยแสง: เอฟเฟ็กต์ภาพที่ได้รับการปรับปรุง
ในโลกปัจจุบันที่เปลี่ยนแปลงอย่างรวดเร็ว ซึ่งเนื้อหาภาพมีอิทธิพลอย่างมาก เทคโนโลยีการเคลือบออปติคอลมีบทบาทสำคัญในการปรับปรุงคุณภาพของจอแสดงผลต่างๆตั้งแต่สมาร์ทโฟนไปจนถึงหน้าจอทีวี การเคลือบด้วยแสงได้ปฏิวัติวิธีที่เรารับรู้และสัมผัสกับเนื้อหาภาพ...อ่านเพิ่มเติม -
เพิ่มประสิทธิภาพการเคลือบผิวด้วย Magnetron Sputtering ด้วย Arc Discharge Power Supply
การเคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอริงนั้นดำเนินการในการปล่อยแสงโดยมีความหนาแน่นกระแสไหลต่ำและความหนาแน่นของพลาสมาต่ำในห้องเคลือบทำให้เทคโนโลยีแมกนีตรอนสปัตเตอริงมีข้อเสีย เช่น แรงยึดเกาะพื้นผิวฟิล์มต่ำ อัตราการแตกตัวเป็นไอออนของโลหะต่ำ และรา...อ่านเพิ่มเติม -
การใช้การปล่อย RF
1. ประโยชน์สำหรับการสปัตเตอริงและการชุบฟิล์มฉนวนการเปลี่ยนแปลงอย่างรวดเร็วของขั้วอิเล็กโทรดสามารถใช้เพื่อสปัตเตอร์เป้าหมายที่เป็นฉนวนโดยตรงเพื่อให้ได้ฟิล์มฉนวนหากใช้แหล่งจ่ายไฟ DC เพื่อสปัตเตอและเคลือบฟิล์มฉนวน ฟิล์มฉนวนจะป้องกันไอออนบวกไม่ให้เข้า...อ่านเพิ่มเติม -
การรักษาความร้อนด้วยสารเคมีไอออนิกอุณหภูมิต่ำ
1. อุณหภูมิการรักษาความร้อนทางเคมีแบบดั้งเดิม กระบวนการบำบัดความร้อนทางเคมีแบบดั้งเดิมทั่วไป ได้แก่ คาร์บูไรซิ่งและไนไตรดิ้ง และอุณหภูมิของกระบวนการจะถูกกำหนดตามแผนภาพเฟส Fe-C และแผนภาพเฟส Fe-Nอุณหภูมิคาร์บูไรซิ่งอยู่ที่ประมาณ 930 °C และ...อ่านเพิ่มเติม -
ลักษณะทางเทคนิคของการเคลือบผิวด้วยการระเหยด้วยสุญญากาศ
1. กระบวนการเคลือบด้วยการระเหยด้วยสุญญากาศประกอบด้วยการระเหยของวัสดุฟิล์ม การขนส่งไอระเหยของอะตอมในสุญญากาศสูง และกระบวนการเกิดนิวเคลียสและการเจริญเติบโตของไออะตอมบนพื้นผิวของชิ้นงาน2. ระดับสูญญากาศสะสมของการเคลือบการระเหยของสุญญากาศอยู่ในระดับสูง ทำให้...อ่านเพิ่มเติม -
ประเภทของการเคลือบแข็ง
TiN เป็นสารเคลือบแข็งชนิดแรกสุดที่ใช้ในเครื่องมือตัด โดยมีข้อดี เช่น มีความแข็งแรงสูง มีความแข็งสูง และทนทานต่อการสึกหรอเป็นวัสดุเคลือบแข็งชนิดแรกที่ใช้ในอุตสาหกรรมและใช้กันอย่างแพร่หลาย ซึ่งใช้กันอย่างแพร่หลายในเครื่องมือเคลือบและแม่พิมพ์เคลือบการเคลือบแข็ง TiN เริ่มแรกฝากไว้ที่ 1,000 ℃...อ่านเพิ่มเติม -
ลักษณะของการดัดแปลงพื้นผิวพลาสมา
พลาสมาพลังงานสูงสามารถทิ้งระเบิดและฉายรังสีวัสดุพอลิเมอร์ ทำลายสายโซ่โมเลกุล สร้างกลุ่มแอคทีฟ เพิ่มพลังงานพื้นผิว และสร้างการกัดการปรับสภาพพื้นผิวด้วยพลาสมาไม่ส่งผลกระทบต่อโครงสร้างภายในและประสิทธิภาพการทำงานของวัสดุเทกอง แต่มีผลอย่างมากต่อค...อ่านเพิ่มเติม -
กระบวนการเคลือบไอออนจากแหล่งกำเนิดอาร์คขนาดเล็ก
กระบวนการเคลือบด้วยไอออนของแหล่งกำเนิดอาร์คแบบแคโทดิกโดยพื้นฐานแล้วจะเหมือนกับเทคโนโลยีการเคลือบอื่นๆ และการดำเนินการบางอย่าง เช่น การติดตั้งชิ้นงานและการดูดฝุ่นจะไม่ทำซ้ำอีกต่อไป1.การล้างทำความสะอาดชิ้นงาน ก่อนการเคลือบ ก๊าซอาร์กอนจะถูกนำเข้าไปในห้องเคลือบด้วย...อ่านเพิ่มเติม -
ลักษณะและวิธีการสร้างการไหลของอาร์คอิเล็กตรอน
1. ลักษณะของการไหลของอิเล็กตรอนแบบอาร์กไลท์ ความหนาแน่นของการไหลของอิเล็กตรอน การไหลของไอออน และอะตอมที่เป็นกลางพลังงานสูงในพลาสมาแบบอาร์กที่เกิดจากการปลดปล่อยอาร์กนั้นสูงกว่าการปลดปล่อยแบบเรืองแสงมากมีไอออนของแก๊สและไอออนของโลหะที่แตกตัวเป็นไอออนมากขึ้น อะตอมพลังงานสูงที่กระตุ้น และกรู...อ่านเพิ่มเติม
