Ang composite coating equipment ng magnetron sputtering at cathodic multi-arc ion coating ay maaaring gumana nang hiwalay at sabay-sabay;maaaring ideposito at ihanda ang purong metal film, metal compound film o composite film;ay maaaring isang solong layer ng pelikula at isang multi-layer composite film.
Ang mga pakinabang nito tulad ng sumusunod:
Hindi lamang nito pinagsasama ang mga pakinabang ng iba't ibang mga patong ng ion at isinasaalang-alang ang paghahanda at pag-deposito ng manipis na pelikula para sa iba't ibang larangan ng aplikasyon, ngunit pinapayagan din ang pag-deposito at paghahanda ng mga multi-layer na monolithic na pelikula o multi-layer na composite na mga pelikula sa parehong vacuum coating chamber sa isang pagkakataon.
Ang mga aplikasyon ng mga nakadeposito na layer ng pelikula ay malawakang ginagamit ang mga teknolohiya nito ay nasa iba't ibang anyo , ang mga karaniwang tulad ng sumusunod:
(1) Ang tambalan ng non-equilibrium magnetron sputtering at cathodic ion plating technology.
Ang aparato nito ay ipinapakita bilang sumusunod.Ito ay isang compound coating equipment ng columnar magnetron target at planar cathodic arc ion coating, na angkop para sa parehong tool coating compound film at decorative film coating.Para sa tool coating, ang cathodic arc ion coating ay ginagamit muna para sa base layer coating, at pagkatapos ay ang column magnetron target ay ginagamit para sa deposition ng nitride at iba pang film layers upang makakuha ng high-precision processing tool surface film.
Para sa pandekorasyon na patong, ang mga pandekorasyon na pelikula ng TiN at ZrN ay maaaring ideposito ng cathodic arc coating muna, at pagkatapos ay doped gamit ang metal gamit ang mga target ng magnetron, at ang doping effect ay napakaganda.
(2) Ang tambalan ng twin plane magnetron at column cathode arc ion coating techniques.Ang aparato ay ipinapakita bilang sumusunod.Ito ay ginagamit ang advanced na twin target na teknolohiya, kapag ang dalawang side-by-side twin target na naka-link sa medium frequency power supply, ito ay hindi lamang overcomes ang target na pagkalason ng DC sputtering, sunog at iba pang mga drawbacks;at maaaring magdeposito ng Al203, SiO2 oxide na kalidad ng pelikula, upang ang paglaban sa oksihenasyon ng mga pinahiran na bahagi ay tumaas at bumuti.Columnar multi-arc target na naka-install sa gitna ng vacuum chamber, ang target na materyal ay maaaring gamitin Ti at Zr, hindi lamang upang mapanatili ang mga pakinabang ng mataas na multi-arc dissociation rate, deposition rate, ngunit maaari ding epektibong mabawasan ang "droplets" sa ang proseso ng maliit na eroplano multi-arc target pagtitiwalag, maaaring magdeposito at maghanda ng isang mababang porosity ng metal films, tambalang pelikula.Kung ang Al at Si ay ginagamit bilang mga target na materyales para sa kambal na planar magnetron na mga target na naka-install sa periphery, ang Al203 o Si0 na mga metal-ceramic na pelikula ay maaaring ideposito at ihanda.Bilang karagdagan, ang maraming maliliit na eroplano ng multi-arc evaporation source ay maaaring i-install sa periphery, at ang target na materyal nito ay maaaring Cr o Ni, at ang mga metal film at multilayer composite film ay maaaring ideposito at ihanda.Samakatuwid, ang composite coating technology na ito ay isang composite coating technology na may maraming application.
Oras ng post: Nob-08-2022