① Film kalınlığının iyi kontrol edilebilirliği ve tekrarlanabilirliği
Film kalınlığının önceden belirlenmiş bir değerde kontrol edilip edilemeyeceği, film kalınlığı kontrol edilebilirliği olarak adlandırılır.Gerekli film kalınlığı birçok kez tekrarlanabilir, buna film kalınlığı tekrarlanabilirliği denir. Çünkü vakumlu püskürtme kaplamanın deşarj akımı ve hedef akımı ayrı ayrı kontrol edilebilir.Bu nedenle, püskürtülen filmin kalınlığı kontrol edilebilir ve önceden belirlenmiş kalınlığa sahip film güvenilir bir şekilde biriktirilebilir.Ek olarak, püskürtmeli kaplama, geniş bir yüzey üzerinde tekdüze kalınlıkta bir film elde edebilir.
② Film ve alt tabaka arasında güçlü yapışma
Püskürtülmüş atomların enerjisi, buharlaştırılmış atomlarınkinden 1-2 kat daha yüksektir.Substrat üzerinde biriken yüksek enerjili püskürtülmüş atomların enerji dönüşümü, daha yüksek ısı üreten ve püskürtülen atomlar ile substrat arasındaki yapışmayı artıran buharlaştırılmış atomlarınkinden çok daha yüksektir.Ek olarak, bazı yüksek enerjili püskürtülmüş atomlar, substrat üzerinde bir sahte difüzyon tabakası oluşturarak farklı derecelerde enjeksiyon üretir.Ek olarak, film oluşturma işlemi sırasında alt tabaka her zaman plazma bölgesinde temizlenir ve aktive edilir, bu da zayıf yapışma ile sıçrayan atomları uzaklaştırır ve alt tabaka yüzeyini arındırır ve aktive eder.Bu nedenle, püskürtülen film, alt tabakaya güçlü bir şekilde yapışır.
③ Hedeften farklı yeni malzeme filmi hazırlanabilir
Püskürtme sırasında hedefle reaksiyona girmesi için reaktif gaz verilirse, hedeften tamamen farklı yeni bir malzeme filmi elde edilebilir.Örneğin, püskürtme hedefi olarak silikon kullanılır ve oksijen ve argon birlikte vakum odasına konur.Püskürtme işleminden sonra SiOz yalıtım filmi elde edilebilir.Püskürtme hedefi olarak titanyum kullanılarak, nitrojen ve argon birlikte vakum odasına konur ve püskürtme işleminden sonra faz TiN altın benzeri film elde edilebilir.
④ Yüksek saflıkta ve kaliteli film
Püskürtme filmi hazırlama cihazında pota bileşeni bulunmadığından, pota ısıtıcı malzemesinin bileşenleri püskürtme filmi tabakasında karıştırılmayacaktır.Püskürtme kaplamanın dezavantajları, film oluşturma hızının buharlaştırmalı kaplamadan daha yavaş olması, alt tabaka sıcaklığının daha yüksek olması, kirlilik gazından etkilenmenin kolay olması ve cihaz yapısının daha karmaşık olmasıdır.
Bu makale, bir üretici olan Guangdong Zhenhua tarafından yayınlanmıştır.vakumlu kaplama ekipmanları
Gönderim zamanı: Mart-09-2023