Plazma doğrudan polimerizasyon işlemi

Plazma doğrudan polimerizasyon işlemi

Plazma polimerizasyon işlemi, hem dahili elektrot polimerizasyon ekipmanı hem de harici elektrot polimerizasyon ekipmanı için nispeten basittir, ancak parametrelerin Plazma polimerizasyonu sırasında polimer filmlerin yapısı ve performansı üzerinde daha büyük bir etkisi olduğundan, Plazma polimerizasyonunda parametre seçimi daha önemlidir.

Doğrudan plazma polimerizasyonu için işlem adımları aşağıdaki gibidir:

(1) Vakumlama

Vakum koşulları altında polimerizasyonun arka plan vakumu 1,3×10-1Pa'ya pompalanmalıdır.Oksijen veya nitrojen içeriğini kontrol etmek için özel gereksinimler gerektiren polimerizasyon reaksiyonları için, arka plan vakum gereksinimi daha da yüksektir.

(2) Şarj reaksiyonu monomeri veya taşıyıcı gaz ve monomerin karışık gazı

Vakum derecesi 13-130Pa'dır.İş gerektiren Plazma polimerizasyonu için, genellikle 10.100mL/dk olmak üzere uygun akış kontrol modu ve akış hızı seçilmelidir.Plazmada, monomer molekülleri iyonize edilir ve enerjik parçacıkların bombardımanı ile ayrışır, bu da iyonlar ve aktif genler gibi aktif parçacıklarla sonuçlanır.Plazma tarafından aktive edilen aktif parçacıklar, gaz fazı ve katı faz arayüzünde Plazma polimerizasyonuna maruz kalabilir.Monomer, Plazma polimerizasyonu için öncü kaynağıdır ve giriş reaksiyon gazı ve monomeri belirli bir saflığa sahip olacaktır.

(3) Uyarma güç kaynağı seçimi

Plazma, polimerizasyon için bir plazma ortamı sağlamak üzere DC, yüksek frekans, RF veya mikrodalga güç kaynakları kullanılarak üretilebilir.Güç kaynağı seçimi, polimerin yapısı ve performansı için gerekliliklere göre belirlenir.

(4) Deşarj modu seçimi

Polimer gereksinimleri için, Plazma polimerizasyonu iki deşarj modu seçebilir: sürekli deşarj veya darbeli deşarj.

(5) Deşarj parametrelerinin seçimi

Plazma polimerizasyonu yapılırken, deşarj parametrelerinin plazma parametreleri, polimer özellikleri ve yapı gerekliliklerinden dikkate alınması gerekir.Polimerizasyon sırasında uygulanan gücün büyüklüğü, vakum odasının hacmi, elektrot boyutu, monomer akış hızı ve yapısı, polimerizasyon hızı ve polimer yapısı ve performansı ile belirlenir.Örneğin, reaksiyon odası hacmi 1L ise ve RF Plazma polimerizasyonu benimsenmişse, deşarj gücü 10~30W aralığında olacaktır.Bu koşullar altında, üretilen plazma, iş parçasının yüzeyinde ince bir film oluşturmak üzere toplanabilir.Plazma polimerizasyon filminin büyüme hızı, güç kaynağına, monomer tipine ve akış hızına ve işlem koşullarına göre değişir.Genel olarak, büyüme hızı 100nm/dak~1um/dak'dır.

(6) Plazma polimerizasyonunda parametre ölçümü

Plazma polimerizasyonunda ölçülecek plazma parametreleri ve işlem parametreleri şunları içerir: deşarj voltajı, deşarj akımı, deşarj frekansı, Elektron sıcaklığı, yoğunluk, reaksiyon grubu tipi ve konsantrasyonu, vb.

——Bu makale, Guangdong Zhenhua Technology tarafından yayınlandı.optik kaplama makineleri üreticisi.