buvakumlu kaplamamakine süreci ayrılmıştır: vakumlu buharlaştırma kaplaması, vakumlu püskürtme kaplaması ve vakumlu iyon kaplaması.
1 、 Vakum buharlaşma kaplaması
Vakum koşulu altında, metal, metal alaşımı vb. gibi malzemeyi buharlaştırın, ardından bunları alt tabaka yüzeyinde biriktirin, buharlaştırma kaplama yöntemi genellikle dirençli ısıtmayı kullanır ve ardından kaplama malzemesinin elektron ışını bombardımanı yapar. gaz fazına buharlaştırılır, ardından alt tabaka yüzeyinde biriktirilir, tarihsel olarak, vakumlu buhar biriktirme, PVD yönteminde kullanılan daha önceki teknolojidir.
2 、 Püskürtme kaplama
Gaz, (Ar) ile doldurulmuş vakum koşulları altında parlak bir deşarja tabi tutulur. Bu anda argon (Ar) atomları iyonunu nitrojen iyonlarına (Ar) dönüştürür. kaplama malzemesinden yapılır, hedef püskürtülür ve alt tabaka yüzeyinde biriktirilir. Genellikle kızdırma deşarjı ile elde edilen püskürtmeli kaplamadaki olay iyonları 10-2pa ila 10Pa aralığındadır, bu nedenle püskürtülen parçacıkların çarpışması kolaydır alt tabakaya doğru uçarken vakum odasındaki gaz molekülleri ile hareket yönünü rastgele hale getirir ve biriken filmin tek tip olmasını kolaylaştırır.
3, İyon kaplama
Vakum koşulları altında, Vakum koşulu altında, kaplama malzemesi atomlarını iyonlara kısmen iyonize etmek için belirli bir plazma iyonizasyon tekniği kullanılır. Aynı zamanda, alt tabaka üzerinde negatif eğilimli olan birçok yüksek enerjili nötr atom üretilir. Bu şekilde iyonlar, ince bir film oluşturmak için altlık yüzeyinde derin bir negatif öngerilim altında biriktirilir.
Gönderim zamanı: 23 Mart 2023