.Әр сүзнеңвакуум каплауМашина процессы түбәндәгеләргә бүленә: вакуум парга әйләнү, вакуум спуттеринг каплау һәм вакуум ион каплау.
1 uc Вакуум парга әйләнү
Вакуум шартларында материалны парга әйләндерегез metal металл, металл эретү һ.б. газ фазасына парга әйләнде, аннары субстрат өслегенә кертелде, тарихи яктан, вакуум парларын чүпләү - ПВД ысулында кулланылган элеккеге технология.
2 、 Чүпрәле каплау
Газ (Ar) тутырылган вакуум шартларында ялтырап тора каплау материалыннан эшләнгән, максат чәчеләчәк һәм субстрат өслегенә урнаштырылачак Чакыргыч каплаудагы вакыйгалар ионнары, гадәттә, ялтыравык белән алынган, 10-2pa - 10Pa диапазонында ， Шулай итеп, чәчелгән кисәкчәләр бәрелешү җиңел. субстратка очканда вакуум камерасындагы газ молекулалары белән, хәрәкәт юнәлешен очраклы итә һәм урнаштырылган фильм бертөрле булырга җиңел.
3 、 Ион каплау
Вакуум шартларында, вакуум шартларында, каплау материалы атомнарын өлешчә ионлаштыру өчен билгеле бер плазма ионлаштыру техникасы кулланылды. Шул ук вакытта күп энергияле нейтраль атомнар җитештерелә ， алар субстратка тискәре караш белән карыйлар. Шулай итеп, ионнар. нечкә пленка формалаштыру өчен тирән тискәре караш астында субстрат өслегендә урнаштырыла.
Пост вакыты: 23-2023 март