1. Theпокриття вакуумним випаровуваннямпроцес включає випаровування плівкових матеріалів, транспортування атомів пари у високому вакуумі та процес зародження та зростання атомів пари на поверхні заготовки.
2. Ступінь вакуумного осадження покриття вакуумного випаровування високий, зазвичай 10-510-3Па. Довжина вільного пробігу молекул газу становить 1~10 м порядку величини, що набагато більше, ніж відстань від джерела випаровування до деталі, ця відстань називається відстанню випаровування, зазвичай 300~800 мм.Частинки покриття майже не стикаються з молекулами газу і атомами пари і досягають заготовки.
3. Шар покриття вакуумного випаровування не є намотаним покриттям, і атоми пари прямують прямо до заготовки під високим вакуумом.Тільки сторона, звернена до джерела випаровування на заготовці, може отримати шар плівки, а сторона та задня частина заготовки навряд чи можуть отримати шар плівки, і шар плівки має погане покриття.
4. Енергія частинок шару покриття вакуумного випаровування низька, і енергія, що досягає заготовки, є теплою, що переноситься випаровуванням.Оскільки заготовка не зміщується під час нанесення покриття вакуумним випаровуванням, атоми металу покладаються лише на тепло випаровування під час випаровування, температура випаровування становить 1000–2000 °C, а переносима енергія еквівалентна 0,1–0,2 еВ, тому енергія Частинки плівки низькі, сила зв'язку між шаром плівки та матрицею невелика, і складне покриття важко сформувати.
5. Шар покриття вакуумного випаровування має дрібну структуру.Процес вакуумного випаровування відбувається під високим вакуумом, і частинки плівки в парі в основному мають атомарний масштаб, утворюючи дрібне ядро на поверхні заготовки.
Час публікації: 14 червня 2023 р