Вакуумне іонне покриття (або іонне покриття) було запропоновано компанією DM Mattox у Сполучених Штатах у 1963 році в Сомдії. У 1970-х роках швидко розвивалася нова технологія обробки поверхні. Вона полягає у використанні джерела випаровування або розпилювальної мішені у вакуумній атмосфері, що призводить до випаровування або розпилення плівкового матеріалу, а частина частинок, що іонізуються в газовому розрядному просторі, випаровується або розпилюється, і перетворюється на іони металу.
Ці частинки осідають на підкладці під дією електричного поля, утворюючи тонку плівку.
Вакуумне іонне покриття існує в багатьох видах, зазвичай залежно від матеріалу мембрани, з якого виготовлено джерело іонів, і зазвичай його поділяють на два типи: іонне покриття випаровуванням джерела та іонне покриття розпиленням мішені. Перший тип полягає в випаровуванні плівкового матеріалу шляхом нагрівання для утворення парів металу, в результаті чого він частково іонізується в пари металу та високоенергетичні нейтральні атоми в просторі газового розряду, які під дією електричного поля досягають підкладки та утворюють тонкі плівки; другий тип полягає в тому, що високоенергетичні іони (наприклад, Ar+) потрапляють на поверхню плівкового матеріалу, що призводить до розпилення частинок, що іонізуються через простір газового розряду в іони або високоенергетичні нейтральні атоми, які досягають поверхні підкладки та утворюють плівку.
–Цю статтю опубліковановиробник вакуумних машин для покриттяГуандун Чженьхуа
Час публікації: 07 березня 2024 р.