Іонне покриттямашина походить від теорії, запропонованої Д. М. Маттоксом у 1960-х роках, і тоді ж почалися відповідні експерименти;До 1971 року Чемберс та інші опублікували технологію іонного покриття електронним променем;Технологія реактивного випаровування (ARE) була згадана в звіті Буншаха в 1972 році, коли були виготовлені надтверді типи плівок, такі як TiC і TiN;Також у 1972 році Сміт і Моллі застосували технологію порожнистого катода в процесі нанесення покриття.До 1980-х років іонне покриття в Китаї нарешті досягло рівня промислового застосування, і послідовно з’явилися процеси нанесення покриттів, такі як вакуумне багатодугове іонне покриття та дугове іонне покриття.
Весь робочий процес вакуумного іонного покриття виглядає наступним чином: по-перше,насосвакуумну камеру, а потімчекативакуумний тиск до 4X10 ⁻ ³ Паабо краще, необхідно підключити джерело живлення високої напруги та створити низькотемпературну плазмову зону низьковольтного розрядного газу між підкладкою та випарником.Підключіть електрод підкладки до високої негативної напруги 5000 В постійного струму, щоб утворити тліючий розряд катода.Іони інертного газу утворюються поблизу області негативного світіння.Вони потрапляють у темну область катода, прискорюються електричним полем і бомбардують поверхню підкладки.Це процес очищення, а потім увійдіть в процес покриття.Через ефект нагрівання бомбардування деякі матеріали покриття випаровуються.Область плазми потрапляє в протони, стикається з електронами та іонами інертного газу, і невелика їх частина іонізується. Ці іонізовані іони з високою енергією будуть бомбардувати поверхню плівки та певною мірою покращувати якість плівки.
Принцип вакуумного іонного покриття такий: у вакуумній камері, використовуючи явище газового розряду або іонізовану частину випареного матеріалу, під бомбардуванням іонів випарованого матеріалу або іонів газу, одночасно осадіть ці випарені речовини або їхні реагенти на підкладку для отримання тонкої плівки.Іонне покриттямашинапоєднує в собі вакуумне випаровування, плазмову технологію та газовий тліючий розряд, що не тільки покращує якість плівки, але й розширює діапазон застосування плівки.Перевагами цього процесу є сильна дифракція, хороша адгезія плівки та різні матеріали покриття.Принцип іонного покриття вперше був запропонований Д. М. Маттоксом.Існує багато видів іонного покриття.Найбільш поширеним типом є нагрівання випаровуванням, включаючи нагрівання опором, нагрівання електронним променем, нагрівання електронним променем плазми, високочастотне індукційне нагрівання та інші методи нагрівання.
Час публікації: 14 лютого 2023 р